摘要 | 第4-6页 |
ABSTRACT | 第6-8页 |
第一章 前言 | 第13-37页 |
1.1 费托合成反应简介 | 第13-17页 |
1.1.1 费托催化剂活性组分 | 第13-15页 |
1.1.2 费托催化剂载体 | 第15-17页 |
1.2 光催化反应简介 | 第17-20页 |
1.2.1 光催化的原理 | 第17页 |
1.2.2 常见的光催化剂 | 第17-19页 |
1.2.3 光催化的主要研究方向 | 第19-20页 |
1.3 光热催化反应简介 | 第20-25页 |
1.3.1 光热催化简述 | 第20-21页 |
1.3.2 光热催化应用 | 第21-25页 |
1.4 研究意义及背景介绍 | 第25-26页 |
1.5 参考文献 | 第26-37页 |
第二章 实验试剂、仪器以及测试条件 | 第37-43页 |
2.1 实验试剂及仪器 | 第37-38页 |
2.1.1 实验试剂 | 第37页 |
2.1.2 实验仪器 | 第37-38页 |
2.2 催化剂表征仪器 | 第38-39页 |
2.2.1 X射线粉末衍射(XRD) | 第38页 |
2.2.2 扫描电镜分析(SEM) | 第38页 |
2.2.3 透射电镜分析(TEM) | 第38页 |
2.2.4 比表面积及孔结构测试(BET) | 第38页 |
2.2.5 H_2程序升温还原(H_2-TPR) | 第38-39页 |
2.2.6 NH_3-程序升温脱附(NH_3-TPD) | 第39页 |
2.2.7 X-射线光电子能谱测试(XPS) | 第39页 |
2.2.8 差热-热重分析(TG-DSC) | 第39页 |
2.2.9 紫外-可见吸收光谱测试(UV-vis) | 第39页 |
2.3 光热费托合成催化剂的活性评价及产物分析方法 | 第39-43页 |
2.3.1 催化剂活性评价装置 | 第39-40页 |
2.3.2 活性评价装置的操作步骤 | 第40-41页 |
2.3.3 反应产物的计算方法 | 第41-43页 |
第三章 15%Co/SiC催化剂光热费托合成催化性能研究 | 第43-55页 |
3.1 引言 | 第43页 |
3.2 催化剂的制备方法 | 第43页 |
3.3 催化剂的表征 | 第43-48页 |
3.3.1 X射线衍射分析(XRD) | 第43-44页 |
3.3.2 扫描电镜分析(SEM) | 第44-45页 |
3.3.3 X射线能谱分析(XPS) | 第45页 |
3.3.4 透射电镜分析(TEM) | 第45-46页 |
3.3.5 程序升温还原分析(H_2-TPR) | 第46-47页 |
3.3.6 紫外-可见吸收光谱测试分析(UV-vis) | 第47页 |
3.3.7 N_2吸附-脱附分析 | 第47-48页 |
3.4 催化剂活性评价 | 第48-50页 |
3.4.1 催化剂的反应条件 | 第48-49页 |
3.4.2 催化剂活性评价 | 第49-50页 |
3.5 反应后催化剂的表征 | 第50-52页 |
3.5.1 反应后催化剂XRD分析 | 第50-51页 |
3.5.2 反应后催化剂的XPS分析 | 第51-52页 |
3.5.3 反应后的UV-vis分析 | 第52页 |
3.6 小结 | 第52-53页 |
3.7 参考文献 | 第53-55页 |
第四章 调变载体钴铝比制备的催化剂光热费托性能研究 | 第55-70页 |
4.1 引言 | 第55页 |
4.2 载体和催化剂的制备 | 第55页 |
4.3 载体和催化剂的表征 | 第55-61页 |
4.3.1 X射线衍射分析(XRD) | 第55-56页 |
4.3.2 NH_3-程序升温脱附分析(NH_3-TPD) | 第56-57页 |
4.3.3 载体的透射电镜分析(TEM) | 第57-58页 |
4.3.4 载体的扫描电镜分析(SEM) | 第58页 |
4.3.5 载体的N_2吸附-脱附分析(BET) | 第58-59页 |
4.3.6 H_2-程序升温还原分析(H_2-TPR) | 第59-60页 |
4.3.7 紫外-可见吸收光谱测试分析(UV-vis) | 第60-61页 |
4.4 催化剂活性评价 | 第61-65页 |
4.4.1 催化剂的反应条件 | 第61-62页 |
4.4.2 15%Co/CoAl_2O_4-Al_2O_3和15%Co/CoAl_2O_4催化剂活性评价数据分析 | 第62-64页 |
4.4.3 15%Co/CoAl_2O_4-Al_2O_3引入不同光源催化活性的比较 | 第64-65页 |
4.5 反应后催化剂的表征 | 第65-67页 |
4.5.1 反应后催化剂XRD分析 | 第65-66页 |
4.5.2 反应后催化剂的UV-vis分析 | 第66页 |
4.5.3 反应后催化剂的XPS分析 | 第66-67页 |
4.6 小结 | 第67-68页 |
4.7 参考文献 | 第68-70页 |
第五章 15%Fe/SiC催化剂光热费托合成催化性能研究 | 第70-83页 |
5.1 引言 | 第70页 |
5.2 催化剂的制备方法 | 第70页 |
5.3 催化剂的表征 | 第70-74页 |
5.3.1 X射线衍射分析(XRD) | 第70-71页 |
5.3.2 载体扫描电镜分析(SEM) | 第71-72页 |
5.3.3 催化剂透射电镜分析(TEM) | 第72页 |
5.3.4 紫外-可见吸收光谱测试分析(UV-vis) | 第72-73页 |
5.3.5 H_2-程序升温还原分析(H_2-TPR) | 第73-74页 |
5.3.6 X射线能谱分析(XPS) | 第74页 |
5.4 催化剂活性评价 | 第74-75页 |
5.4.1 催化剂反应条件 | 第74页 |
5.4.2 催化剂活性评价数据分析 | 第74-75页 |
5.5 反应后催化剂的表征 | 第75-80页 |
5.5.1 反应后催化剂的形态 | 第75-76页 |
5.5.2 反应后催化剂的XRD分析 | 第76-77页 |
5.5.3 透射电镜分析(TEM) | 第77-78页 |
5.5.4 N_2吸附-脱附分析(BET) | 第78-79页 |
5.5.5 反应后催化剂的热重分析(TG) | 第79-80页 |
5.6 小结 | 第80-81页 |
5.7 参考文献 | 第81-83页 |
第六章 全文总结与展望 | 第83-85页 |
6.1 全文总结 | 第83-84页 |
6.2 展望 | 第84-85页 |
致谢 | 第85页 |