| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-9页 |
| 第一章 文献综述与选题依据 | 第9-31页 |
| ·课题研究背景 | 第9-17页 |
| ·化学机械抛光的起源及研究进展 | 第9-11页 |
| ·化学机械抛光技术组成 | 第11-14页 |
| ·化学机械抛光的机理和材料去除模型的研究 | 第14-16页 |
| ·化学机械抛光材料去除模型分类 | 第16-17页 |
| ·CeO_2复合氧化物的制备及发展趋势 | 第17-23页 |
| ·固相反应法 | 第17-18页 |
| ·液相反应法 | 第18-23页 |
| ·各种光学玻璃的性质及化学机械抛光机理的研究 | 第23-27页 |
| ·光学玻璃的基本性质及用途 | 第23-25页 |
| ·光学玻璃的表面去除机理的研究 | 第25-27页 |
| ·CMP浆料的研究现状和发展趋势 | 第27-29页 |
| ·CMP传统单一磨料的研究 | 第27-28页 |
| ·CMP复合磨料的研究 | 第28-29页 |
| ·本研究的立项依据及主要研究内容 | 第29-31页 |
| ·立项依据和意义 | 第29-30页 |
| ·主要研究内容 | 第30-31页 |
| 第二章 超细锡铈复合氧化物的制备及光学玻璃抛光性能 | 第31-39页 |
| ·前言 | 第31-32页 |
| ·实验部分 | 第32-34页 |
| ·主要试剂以及仪器清单 | 第32-33页 |
| ·湿固相机械化学法合成Ce_XSn_(1-X)O_2 | 第33页 |
| ·Ce_XSn_(1-X)O_2的表征方法 | 第33页 |
| ·Ce_XSn_(1-X)O_2对光学玻璃的的抛光评价 | 第33-34页 |
| ·结果与讨论 | 第34-38页 |
| ·超细锡铈复合氧化物的XRD分析 | 第34-35页 |
| ·超细锡铈复合氧化物的SEM分析 | 第35-36页 |
| ·超细锡铈复合氧化物组成和煅烧温度对去除速率的影响 | 第36-37页 |
| ·复合氧化物的粒径和Zeta电位 | 第37-38页 |
| ·本章小结 | 第38-39页 |
| 第三章 La-Ce-Pr复合抛光粉的合成及光学玻璃抛光性能 | 第39-47页 |
| ·前言 | 第39-40页 |
| ·实验部分 | 第40-41页 |
| ·主要试剂以及仪器清单 | 第40页 |
| ·复合氧化铈的共沉淀法合成及浆料的调配 | 第40-41页 |
| ·复合抛光粉的悬浮性测试 | 第41页 |
| ·抛光评价实验 | 第41页 |
| ·结果与讨论 | 第41-45页 |
| ·复合产物的XRD分析 | 第41-42页 |
| ·复合产物的SEM分析 | 第42-43页 |
| ·抛光浆料的悬浮稳定性分析 | 第43-44页 |
| ·复合粉体的组成对不同材质玻璃的去除速率的影响 | 第44-45页 |
| ·本章小结 | 第45-47页 |
| 第四章 氟掺杂复合抛光粉的合成及抛光性能 | 第47-61页 |
| ·前言 | 第47-48页 |
| ·实验部分 | 第48-51页 |
| ·主要试剂以及仪器清单 | 第48页 |
| ·氟掺杂氧化铈的共沉淀法合成 | 第48-49页 |
| ·共沉淀法氟掺杂抛光粉中氟含量的测定 | 第49-50页 |
| ·共沉淀法氟掺杂氧化铈的Zeta电位、悬浮性及粒度测试 | 第50页 |
| ·机械化学法合成氟掺杂氧化铈 | 第50页 |
| ·抛光评价实验 | 第50-51页 |
| ·结果与讨论 | 第51-59页 |
| ·共沉淀法掺杂氟的复合氧化铈XRD分析 | 第51-52页 |
| ·共沉淀法氟掺杂氧化铈的SEM分析 | 第52页 |
| ·共沉淀法氟掺杂氧化铈的粒度和Zeta电位分析 | 第52-53页 |
| ·共沉淀法氟掺杂复合氧化铈抛光粉浆料的悬浮性分析 | 第53-54页 |
| ·共沉淀法氟掺杂氧化铈对不同材质玻璃的去除速率的影响 | 第54-56页 |
| ·共沉淀法氟掺杂氧化铈的TPR分析 | 第56页 |
| ·共沉淀法制备的抛光粉氟含量的测定 | 第56-57页 |
| ·机械化学法掺杂氟的复合氧化铈XRD分析 | 第57-58页 |
| ·机械化学法掺杂氟的复合氧化铈对材料去除速率的分析 | 第58-59页 |
| ·机械化学法氟掺杂复合氧化铈的粒度和Zeta电位分析 | 第59页 |
| ·本章小结 | 第59-61页 |
| 总结 | 第61-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-70页 |
| 攻读学位期间的研究成果 | 第70页 |
