摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-8页 |
第一章 绪论 | 第8-27页 |
§1.1 四硫富瓦烯及其衍生物的性质及性质研究 | 第8-15页 |
·四硫富瓦烯及其衍生物的性质 | 第8-9页 |
·四硫富瓦烯及其衍生物最新研究进展 | 第9-15页 |
§1.2 含吡啶基团四硫富瓦烯衍生物的种类及研究现状 | 第15-23页 |
·TTF与吡啶基团间接相连的化合物 | 第15-20页 |
·TTF与吡啶基团直接相连的化合物 | 第20-23页 |
§1.3 本论文研究的主要内容及意义 | 第23-24页 |
参考文献 | 第24-27页 |
第二章 含吡啶基团四硫富瓦烯衍生物的加质子反应及氧化还原性质 | 第27-49页 |
§2.1 前言 | 第27页 |
§2.2 实验部分 | 第27-30页 |
·试剂及仪器 | 第27-28页 |
·合成部分 | 第28-29页 |
·晶体结构测定 | 第29-30页 |
·pH测定 | 第30页 |
·电化学的测定 | 第30页 |
§2.3 结果与讨论 | 第30-45页 |
·合成讨论 | 第30-31页 |
·晶体结构讨论 | 第31-39页 |
·在对甲苯磺酸中Py TTF-Py的电化学响应 | 第39-40页 |
·在对甲苯磺酸中Py-TTF-Py的紫外可见光谱和溶剂变色效应 | 第40-42页 |
·Py-TTF-Py的单质子化和双质子化 | 第42-44页 |
·Py-TTF-Py的化学氧化 | 第44-45页 |
§2.4 结论 | 第45-46页 |
参考文献 | 第46-49页 |
第三章 C_8H_5NOS_2及其配合物的合成 | 第49-68页 |
§3.1 前言 | 第49页 |
§3.2 实验部分 | 第49-51页 |
·试剂仪器 | 第49-50页 |
·合成部分 | 第50-51页 |
·晶体结构测定 | 第51页 |
§3.3 结果与讨论 | 第51-65页 |
·晶体结构讨论 | 第51-62页 |
·配合物的固体紫外光谱 | 第62-63页 |
·配合物的固体荧光性质 | 第63页 |
·配合物5的固体电化学性质 | 第63-65页 |
§3.4 结论 | 第65-66页 |
参考文献 | 第66-68页 |
第四章 全文总结 | 第68-69页 |
§4.1 本论文的总结 | 第68页 |
§4.2 对未来工作的设想 | 第68-69页 |
攻读硕士期间发表的论文 | 第69-70页 |
致谢 | 第70页 |