摘要 | 第4-6页 |
ABSTRACT | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第9-22页 |
1.1 钙钛矿型氧化物简介 | 第9-11页 |
1.1.1 铁电性和铁电体的介绍 | 第9-11页 |
1.1.2 铁磁体 | 第11页 |
1.2 磁电耦合及多铁材料 | 第11-13页 |
1.2.1 磁电耦合效应 | 第11-12页 |
1.2.2 多铁性材料 | 第12-13页 |
1.3 薄膜的制备方法 | 第13-16页 |
1.4 铁电薄膜的应用 | 第16-20页 |
1.4.1 非挥发性铁电随机存储器 | 第16-18页 |
1.4.2 非制冷红外探测器 | 第18-19页 |
1.4.3 压电传感器 | 第19-20页 |
参考文献 | 第20-22页 |
第二章 有机铁电聚合物 | 第22-37页 |
2.1 PVDF基有机铁电聚合物 | 第22-25页 |
2.1.1 有机铁电聚合物PVDF的概述 | 第22页 |
2.1.2 PVDF的结构 | 第22-24页 |
2.1.3 PVDF的性质 | 第24-25页 |
2.2 PVDF薄膜的制备工艺 | 第25-28页 |
2.2.1 旋涂法 | 第25-26页 |
2.2.2 朗缪尔(Langmuir-Blodgett)沉积技术 | 第26-28页 |
2.3 PVDF薄膜的性能及表征 | 第28-32页 |
2.4 PVDF材料的应用 | 第32-34页 |
2.4.1 PVDF在声电换能器中的应用 | 第32页 |
2.4.2 PVDF在热释电红外成像中的应用 | 第32-33页 |
2.4.3 PVDF在存储器当中的应用 | 第33-34页 |
参考文献 | 第34-37页 |
第三章 制备LCSMO薄膜及磁电效应研究 | 第37-49页 |
3.1 钙钛矿锰氧化物介绍 | 第37-38页 |
3.2 LCSMO薄膜的制备及表征 | 第38-42页 |
3.2.1 LCSMO薄膜的制备 | 第38-40页 |
3.2.2 LCSMO薄膜的表征及性能测试 | 第40-42页 |
3.3 磁电耦合 | 第42-47页 |
3.3.1 磁电耦合机理 | 第42-43页 |
3.3.2 磁电耦合异质结 | 第43-47页 |
参考文献 | 第47-49页 |
第四章 总结和展望 | 第49-51页 |
4.1 总结 | 第49-50页 |
4.2 展望 | 第50-51页 |
攻读硕士期间所获成果 | 第51-52页 |
致谢 | 第52-53页 |