| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-15页 |
| 1.1 引言 | 第10页 |
| 1.2 Ⅲ族氮化物的基本性质 | 第10-12页 |
| 1.3 Ⅲ族氮化物的三元合金 | 第12-13页 |
| 1.3.1 InGaN合金 | 第12-13页 |
| 1.3.2 AlGaN合金 | 第13页 |
| 1.4 Ⅲ族氮化物研究现状及存在的问题 | 第13-14页 |
| 1.5 本论文的主要研究工作 | 第14-15页 |
| 第二章 椭偏测量技术 | 第15-24页 |
| 2.1 引言 | 第15页 |
| 2.2 椭偏光谱仪的发展历程 | 第15-16页 |
| 2.3 椭偏测量技术原理介绍 | 第16-19页 |
| 2.3.1 菲涅尔反射系数 | 第17-18页 |
| 2.3.2 光经过单层膜的反射和折射 | 第18-19页 |
| 2.4 椭偏数据处理过程 | 第19-21页 |
| 2.5 色散模型 | 第21-23页 |
| 2.6 本章小结 | 第23-24页 |
| 第三章 GaN薄膜材料的光学特性分析 | 第24-32页 |
| 3.1 引言 | 第24页 |
| 3.2 样品与实验 | 第24-25页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第25-30页 |
| 3.3.1 GaN椭圆偏振光谱的研究分析 | 第25-29页 |
| 3.3.2 对GaN椭圆偏振光谱研究结果的验证 | 第29-30页 |
| 3.4 本章小结 | 第30-32页 |
| 第四章 InGaN薄膜材料的光学特性分析 | 第32-40页 |
| 4.1 引言 | 第32页 |
| 4.2 样品与实验 | 第32-33页 |
| 4.3 结果与分析 | 第33-39页 |
| 4.3.1 室温条件下In_xGa_(1-x)N光学常数随In组分的变化规律 | 第33-36页 |
| 4.3.2 In_xGa_(1-x)N光学常数随温度的变化规律 | 第36-39页 |
| 4.4 本章小结 | 第39-40页 |
| 第五章 AlGaN薄膜材料的光学特性分析 | 第40-50页 |
| 5.1 引言 | 第40-41页 |
| 5.2 样品与实验 | 第41-42页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第42-48页 |
| 5.3.1 300 K下不同Al组分对Al_xGa_(1-x)N光学常数的影响 | 第42-45页 |
| 5.3.2 温度对Al_xGa_(1-x)N光学常数和能隙的影响 | 第45-48页 |
| 5.4 本章小结 | 第48-50页 |
| 第六章 结束语 | 第50-52页 |
| 6.1 研究结论 | 第50-51页 |
| 6.2 研究展望 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 攻读硕士期间已发表的论文及研究成果 | 第64页 |
