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Zn:Cu2O和Cl:Cu2O薄膜的制备及其光电化学稳定性研究

摘要第3-4页
Abstract第4页
1 文献综述第7-19页
    1.1 前言第7页
    1.2 氧化亚铜的基本性质第7-8页
    1.3 氧化亚铜薄膜的制备方法第8-11页
    1.4 氧化亚铜在光催化分解水方面的研究第11-13页
        1.4.1 研究背景第11-12页
        1.4.2 氧化亚铜光催化机理第12页
        1.4.3 氧化亚铜光电化学稳定性的研究进展第12-13页
    1.5 氧化亚铜在太阳能电池方面的研究现状第13-18页
        1.5.1 研究背景第13-14页
        1.5.2 太阳能电池的工作机理第14-15页
        1.5.3 氧化亚铜基异质结电池的制备第15-16页
        1.5.4 氧化亚铜基异质结电池的优化研究第16-17页
        1.5.5 n型氧化亚铜的制备及同质结电池的性能研究第17-18页
    1.6 本文主要研究内容第18-19页
2 实验与仪器第19-26页
    2.1 实验主要试剂与仪器第19-20页
        2.1.1 实验所用的主要试剂第19页
        2.1.2 实验所用的主要仪器第19-20页
    2.2 氧化亚铜薄膜的制备第20-26页
        2.2.1 电化学工作站及三电极电解池第20-21页
        2.2.2 实验过程第21-22页
        2.2.3 实验中的表征技术第22-26页
3 实验结果与讨论第26-46页
    3.1 Zn掺杂氧化亚铜薄膜第26-37页
        3.1.1 引言第26页
        3.1.2 Zn的掺杂浓度和XRD结果分析第26-27页
        3.1.3 SEM显微结构分析第27-28页
        3.1.4 氧化亚铜薄膜的光电性能测试第28-29页
        3.1.5 EIS与莫特-肖特基曲线(Mott–Schottky)测试结果与分析第29-31页
        3.1.6 PL光谱结果分析第31-32页
        3.1.7 Cu的XPS测试结果与分析第32-33页
        3.1.8 其他测试结果与分析第33-36页
        3.1.9 本章小结第36-37页
    3.2 Cl掺杂氧化亚铜薄膜第37-46页
        3.2.1 引言第37-39页
        3.2.2 莫特-肖特基曲线测试第39-40页
        3.2.3 XRD与SEM测试结果与分析第40-41页
        3.2.4 光电性能测试与分析第41-43页
        3.2.5 EIS阻抗谱结果与分析第43-44页
        3.2.6 开路电压衰减实验第44-45页
        3.2.7 本章小结第45-46页
4 结论与展望第46-48页
    4.1 结论第46-47页
    4.2 展望第47-48页
致谢第48-49页
附录第49-50页
参考文献第50-57页

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