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化合物半导体缺陷物理及表面激发态动力学的第一性原理研究

摘要第1-7页
Abstract第7-14页
第一章 绪论第14-26页
   ·化合物半导体及其应用第14-16页
   ·半导体中的缺陷物理问题第16-20页
   ·半导体器件中电磁波的发射和传感机理第20-23页
   ·本论文的研究意义第23-26页
第二章 密度泛函理论基础第26-50页
   ·第一性原理计算方法第26-27页
   ·伯恩-奥本海默近似第27-30页
   ·哈特里-福克近似第30-32页
   ·密度泛函理论基本思想第32-41页
     ·Hohenberg-Kohn定理和Kohn-Sham方程第33-40页
     ·交换关联能量泛函(LDA和GGA)第40-41页
   ·含时密度泛函理论第41-50页
     ·Runge-Gross定理第42-45页
     ·含时 Kohn-sham 方程第45-48页
     ·交换关联能量泛函(ALDA)第48-50页
第三章 Alpha-石英晶体掺杂理论研究第50-66页
   ·石英晶体介绍以及研究意义第50-54页
   ·计算方法第54-56页
   ·二氧化硅中替位杂质的局域结构第56-58页
   ·二氧化硅中替位杂质的形成能第58-61页
   ·二氧化硅中替位杂质的过渡能级第61-63页
   ·本章总结第63-66页
第四章 太阳能电池材料CZTS本征点缺陷理论研究第66-80页
   ·太阳能电池材料CZTS介绍以及研究背景第66-72页
   ·计算方法第72-73页
   ·生成CZTS的化学势空间第73-75页
   ·本征点缺陷的形成能和过渡能级第75-79页
   ·本章总结第79-80页
第五章 氮化硼中氢作用机理理论研究第80-92页
   ·研究背景第80-85页
   ·计算方法第85页
   ·氢在氮化硼中存在的形式及其稳定性第85-90页
   ·铝杂质对于氢在氮化硼中存在形式的影响第90-91页
   ·本章总结第91-92页
第六章 量子photo-Dember效应的第一性原理预测第92-104页
   ·Photo-Dember效应以及研究背景第92-95页
   ·计算方法第95-96页
   ·半导体表面载流子扩散过程第96-100页
   ·载流子扩散过程的理解第100-102页
   ·载流子扩散过程与温度的关系第102-103页
   ·本章总结第103-104页
参考文献第104-112页
作者简介第112-114页
攻读博士期间已发表及待发表的学术论文第114-116页
致谢第116-117页

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