冲击片雷管的参数优化及关键技术研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 1 绪论 | 第10-17页 |
| ·课题研究背景及意义 | 第10-11页 |
| ·国内外研究现状与发展趋势 | 第11-15页 |
| ·国外爆炸箔起爆系统的发展现状 | 第11-14页 |
| ·国内爆炸箔起爆系统的发展现状 | 第14-15页 |
| ·本文主要的研究工作 | 第15-17页 |
| 2 冲击片雷管的结构简介 | 第17-27页 |
| ·冲击片雷管组成及原理 | 第17-18页 |
| ·冲击片雷管参数优化设计 | 第18-23页 |
| ·反射片 | 第18-19页 |
| ·爆炸箔 | 第19-21页 |
| ·冲击片 | 第21页 |
| ·加速膛 | 第21-22页 |
| ·起爆药柱 | 第22-23页 |
| ·溶剂非溶剂重结晶法细化HNS实验 | 第23-24页 |
| ·细化后HNS性能的检测与分析 | 第24-26页 |
| ·粒度分析 | 第24-25页 |
| ·扫描电镜分析 | 第25页 |
| ·热分析 | 第25-26页 |
| ·本章小结 | 第26-27页 |
| 3 冲击片雷管爆炸箔的制作与性能表征 | 第27-37页 |
| ·磁控溅射镀膜 | 第27-30页 |
| ·闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术简介 | 第27-28页 |
| ·镀膜设备 | 第28页 |
| ·镀膜前处理 | 第28-29页 |
| ·镀膜工艺 | 第29-30页 |
| ·爆炸箔桥形刻制 | 第30-32页 |
| ·桥形刻制方法的选取 | 第30-31页 |
| ·桥形刻制仪器的简介 | 第31-32页 |
| ·爆炸箔性能检测与表征 | 第32-36页 |
| ·膜层厚度/沉积速率的检测 | 第33页 |
| ·X射线衍射(XRD)检测 | 第33-34页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM)检测 | 第34-35页 |
| ·原子力显微镜(AFM)检测 | 第35-36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 4 爆炸箔电爆性能测试 | 第37-47页 |
| ·高压脉冲功率源简介 | 第37-38页 |
| ·起爆回路电阻电感测试 | 第38-40页 |
| ·爆炸箔电爆实验 | 第40-43页 |
| ·Cu爆炸箔在不同电压下的伏安特性曲线分析 | 第40-41页 |
| ·不同爆炸箔在2500V充电电压下的电爆实验对比 | 第41-43页 |
| ·爆炸箔等离子强度和尺寸分析 | 第43-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 5 爆炸箔及起爆回路参数优化研究 | 第47-55页 |
| ·等效起爆回路简介 | 第47-48页 |
| ·爆炸箔电阻模型的研究 | 第48-50页 |
| ·回路各元件对雷管起爆影响因素的分析 | 第50-54页 |
| ·回路电感的影响 | 第50-51页 |
| ·回路初始电阻的影响 | 第51-52页 |
| ·回路电容的影响 | 第52页 |
| ·充电电压的影响 | 第52-53页 |
| ·爆炸箔的桥区长度的影响 | 第53页 |
| ·爆炸箔的厚度的影响 | 第53-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 6 结束语 | 第55-57页 |
| ·总结 | 第55-56页 |
| ·展望 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-63页 |
