非晶碳的第一性原理研究及其薄膜制备
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-21页 |
| ·非晶碳膜(a-C)的研究背景 | 第11-17页 |
| ·非晶碳膜的化学键结构 | 第11-12页 |
| ·非晶碳膜的电子性质 | 第12-14页 |
| ·非晶碳膜的性能与应用领域 | 第14-15页 |
| ·非晶碳膜常用的制备方法 | 第15-17页 |
| ·非晶碳膜研究中解决问题的途径 | 第17页 |
| ·掺杂非晶碳膜 | 第17-19页 |
| ·掺杂对非晶碳膜的力学性质的影响 | 第17-18页 |
| ·掺杂对非晶碳膜残余应力性的影响 | 第18页 |
| ·掺杂对非晶碳膜的光学性质的影响 | 第18页 |
| ·掺杂非晶碳膜研究中存在的问题 | 第18-19页 |
| ·计算材料科学研究的意义 | 第19页 |
| ·本课题的研究目的和内容 | 第19-20页 |
| ·本章小结 | 第20-21页 |
| 第2章 a-C薄膜的模拟工具及研究方法 | 第21-29页 |
| ·分子动力学模拟的方法 | 第21-23页 |
| ·分子动力学模拟的基本原理 | 第21-22页 |
| ·分子动力学模拟的系综 | 第22-23页 |
| ·Discover方法简介 | 第23页 |
| ·第一性原理及其相关理论 | 第23-28页 |
| ·绝热近似及单电子近似 | 第24-26页 |
| ·密度泛函理论 | 第26-27页 |
| ·DMol~3方法简介 | 第27-28页 |
| ·CASTEP方法简介 | 第28页 |
| ·本章小结 | 第28-29页 |
| 第3章 非晶碳薄膜模型的建立、结构与性能分析 | 第29-44页 |
| ·非晶碳薄膜的建模 | 第29-31页 |
| ·分子动力学过程 | 第29-30页 |
| ·非晶碳的第一性原理计算 | 第30-31页 |
| ·非晶碳薄膜的结构参数 | 第31-38页 |
| ·非晶碳网络结构的键长键角 | 第31-33页 |
| ·缺陷结构 | 第33-36页 |
| ·应力分析 | 第36-38页 |
| ·非晶碳薄膜的电子性质 | 第38-40页 |
| ·非晶碳薄膜的光学性质 | 第40-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 第4章 掺硅非晶碳薄膜模型的结构和性能 | 第44-51页 |
| ·掺硅非晶碳薄膜的建模 | 第44页 |
| ·掺硅非晶碳薄膜的结构参数 | 第44-46页 |
| ·掺硅非晶碳薄膜的电子性质 | 第46-47页 |
| ·掺硅非晶碳薄膜的光学性质 | 第47-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 第5章 非晶碳薄膜的制备与表征 | 第51-64页 |
| ·DMX-220A 型镀膜设备的介绍 | 第51-53页 |
| ·本实验室实验条件现状 | 第51-52页 |
| ·磁控溅射镀膜的改进 | 第52-53页 |
| ·非晶碳薄膜的制备 | 第53-55页 |
| ·基本工艺参数的选择 | 第53-54页 |
| ·工艺流程 | 第54-55页 |
| ·非晶碳薄膜分析检测 | 第55-57页 |
| ·薄膜的结构分析 | 第55-56页 |
| ·薄膜的表面形貌分析 | 第56-57页 |
| ·薄膜的光学性能测定 | 第57页 |
| ·膜基间结合力的测量 | 第57页 |
| ·试验结果与分析 | 第57-63页 |
| ·非晶碳膜的结构 | 第58页 |
| ·非晶碳膜的表面形貌 | 第58-60页 |
| ·非晶碳膜的光学性质 | 第60-62页 |
| ·非晶碳膜基的结合力 | 第62-63页 |
| ·本章小结 | 第63-64页 |
| 结论 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-70页 |
| 攻读硕士学位期间承担的科研任务与主要成果 | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 作者简介 | 第72页 |
