| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-20页 |
| ·薄膜的简介 | 第10-11页 |
| ·非晶合金的研究发展 | 第11-13页 |
| ·非晶形成机制 | 第13-14页 |
| ·薄膜的物理制备方法 | 第14-16页 |
| ·磁控溅射法制备薄膜 | 第16-17页 |
| ·薄膜的生长方式 | 第17-19页 |
| ·岛状生长模式 | 第18-19页 |
| ·层状生长模式 | 第19页 |
| ·层岛结合生长模式 | 第19页 |
| ·本文主要研究内容 | 第19-20页 |
| 第2章 实验方法及设备 | 第20-26页 |
| ·实验材料及方法 | 第20-21页 |
| ·实验材料 | 第20页 |
| ·实验流程 | 第20-21页 |
| ·主要实验设备及简介 | 第21-26页 |
| ·磁控溅射仪 | 第21-22页 |
| ·X 衍射分析 | 第22页 |
| ·台阶仪实验 | 第22-23页 |
| ·SEM 观察及 EDS 能谱分析 | 第23页 |
| ·纳米压痕技术 | 第23-24页 |
| ·CSM 划痕试验 | 第24-26页 |
| 第3章 薄膜的制备工艺及结构研究 | 第26-48页 |
| ·薄膜的沉积速率影响因素 | 第26-36页 |
| ·靶基距对沉积速率的影响 | 第26-29页 |
| ·溅射气压对溅射速率的影响 | 第29-32页 |
| ·溅射时间对沉积速率的影响 | 第32-33页 |
| ·溅射功率对沉积速率的影响 | 第33-36页 |
| ·薄膜成分的验证 | 第36-38页 |
| ·Zr-Cu 薄膜结构的研究 | 第38-46页 |
| ·组元成分对 Zr-Cu 薄膜表面形貌以及结构的影响 | 第38-41页 |
| ·溅射时间对 Zr-Cu 薄膜表面形貌以及结构的影响 | 第41-43页 |
| ·溅射气压对 Zr-Cu 薄膜表面形貌以及结构的影响 | 第43-45页 |
| ·基片对薄膜结构的影响 | 第45-46页 |
| ·本章小结 | 第46-48页 |
| 第4章 薄膜的力学性能 | 第48-55页 |
| ·非晶薄膜的纳米硬度和弹性模量 | 第48-50页 |
| ·基片温度对纳米硬度及弹性模量的影响 | 第48-49页 |
| ·溅射功率对纳米硬度及弹性模量的影响 | 第49-50页 |
| ·非晶薄膜的附着力 | 第50-54页 |
| ·溅射气压对薄膜附着力的影响 | 第51-52页 |
| ·溅射功率对薄膜附着力的影响 | 第52-53页 |
| ·基片温度对薄膜附着力的影响 | 第53-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 结论 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-61页 |
| 攻读硕士学位期间承担的科研任务与主要成果 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 作者简介 | 第63页 |
