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宽通带的频率选择表面研究

致谢第1-5页
摘要第5-6页
Abstract第6-9页
第一章 绪论第9-14页
   ·研究背景与基本特性第9页
   ·频率选择表面的研究进展第9-11页
   ·频率选择表面的应用第11-14页
第二章 频率选择表面的基本理论与特性第14-32页
   ·频率选择表面的基本理论第14-22页
     ·Floquet定理及栅瓣现象第14-17页
     ·频率选择表面分析方法—谱域法第17-22页
   ·频率选择表面的基本特性第22-31页
     ·入射角稳定性第23-25页
     ·交叉极化特性第25-26页
     ·介质层对频率选择表面的影响第26-31页
   ·小结第31-32页
第三章 基片集成频率选择表面第32-45页
   ·单通带基片集成频率选择表面第32-40页
     ·极化相关SIWC-FSS结构设计第32-34页
     ·极化不相关SIWC-FSS结构设计第34-36页
     ·SIWC-FSS加工测试第36-40页
   ·双通带基片集成频率选择表面第40-44页
   ·小结第44-45页
第四章 混合边界腔体的频率选择表面第45-53页
   ·混合边界腔体FSS的单元结构分析第45-46页
   ·混合边界腔体FSS结构设计第46-52页
   ·小结第52-53页
第五章 宽通带的混合边界腔体FSS第53-65页
   ·改变参数尺寸第53-55页
   ·增加锯齿结构第55-56页
   ·增加梯形缝隙第56-63页
   ·小结第63-65页
第六章 总结与展望第65-66页
参考文献第66-70页
研究成果第70页

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