摘要 | 第1-4页 |
ABSTRACT | 第4-9页 |
第一章 绪论 | 第9-19页 |
·引言 | 第9页 |
·纳米传感器 | 第9-13页 |
·纳米气敏传感器 | 第10-11页 |
·纳米医学传感器 | 第11页 |
·纳米仿生传感器 | 第11-12页 |
·其他类型纳米传感器 | 第12-13页 |
·从氧化钒体材料到氧化钒纳米材料 | 第13-17页 |
·氧化钒相变机理的研究 | 第13页 |
·氧化钒一维纳米材料的研究 | 第13-16页 |
·氧化钒二维纳米材料的研究 | 第16-17页 |
·本论文的研究意义、目的、内容 | 第17-19页 |
第二章 氧化钒材料的特点和研究方法 | 第19-33页 |
·氧化钒的物理、化学性质 | 第19-24页 |
·三氧化二钒(V_2O_3) | 第20-21页 |
·二氧化钒(VO_2) | 第21-22页 |
·五氧化二钒(V_2O_5) | 第22-24页 |
·氧化钒纳米材料的制备方法 | 第24-29页 |
·一维氧化钒纳米材料的制备方法 | 第24-26页 |
·二维氧化钒纳米材料的制备方法 | 第26-29页 |
·氧化钒纳米材料的分析与表征 | 第29-32页 |
·扫描电子显微镜法(SEM) | 第29页 |
·透射电子显微镜法(TEM) | 第29-30页 |
·X 射线衍射法(XRD) | 第30页 |
·X 射线光电子能谱法(XPS) | 第30-31页 |
·激光拉曼光谱仪(Raman) | 第31-32页 |
·本章小结 | 第32-33页 |
第三章 超长五氧化二钒纳米带的制备 | 第33-48页 |
·超长五氧化二钒纳米带的生长方法 | 第33-35页 |
·五氧化二钒纳米带表征 | 第35-45页 |
·扫描电子显微镜(SEM)分析 | 第36-39页 |
·X 射线电子衍射(XRD)分析 | 第39-41页 |
·激光拉曼(Raman)光谱分析 | 第41-43页 |
·透射电子显微镜(TEM)及能量弥散 X 射线谱(EDS)分析 | 第43-45页 |
·FindIt 软件模拟晶体结构 | 第45页 |
·五氧化二钒纳米带的生长机理 | 第45-47页 |
·本章小结 | 第47-48页 |
第四章 基于五氧化二钒纳米带的超快光电开关研究 | 第48-71页 |
·五氧化二钒纳米带的电学特性 | 第48-51页 |
·光电开关简介 | 第51-53页 |
·光电开关分类 | 第51-52页 |
·光电开关应用领域 | 第52-53页 |
·五氧化二钒纳米带光电开关 | 第53-68页 |
·光谱响应测试 | 第53-55页 |
·光电流测试 | 第55-56页 |
·光功率密度测试 | 第56-57页 |
·光响应速度测试 | 第57-62页 |
·极限开关频率测试 | 第62-63页 |
·开关速度理论分析 | 第63-64页 |
·光电开关稳定性和可重复性测试 | 第64-68页 |
·五氧化二钒纳米带光电开关器件功能演示 | 第68-70页 |
·本章小结 | 第70-71页 |
第五章 超长五氧化二钒纳米带的其他应用研究 | 第71-87页 |
·超长五氧化二钒纳米带应用于应变传感器特性研究 | 第71-79页 |
·压阻效应和压阻系数 | 第71-73页 |
·五氧化二钒纳米带压阻特性 | 第73-76页 |
·五氧化二钒纳米带压阻特性机理研究 | 第76-78页 |
·未来应用前景 | 第78-79页 |
·五氧化二钒纳米带应用与气敏传感器的探索 | 第79-86页 |
·半导体气敏传感器发展趋势 | 第79-80页 |
·气敏传感器性能参数 | 第80-82页 |
·超长五氧化二钒纳米带气敏传感器件的制作及性能测试 | 第82-86页 |
·本章小结 | 第86-87页 |
第六章 激光直写氧化钒薄膜的特性研究 | 第87-106页 |
·激光直写系统及其功能简介 | 第87-99页 |
·激光直写系统的构造 | 第87-93页 |
·NanoLDW-I 的功能及其实现 | 第93-99页 |
·激光直写制备氧化钒薄膜 | 第99-100页 |
·磁控溅射法制备金属钒膜 | 第99页 |
·激光直写方法制备氧化钒薄膜 | 第99-100页 |
·结构分析和表征 | 第100-105页 |
·光学显微分析 | 第100-101页 |
·XPS 分析 | 第101-105页 |
·本章小结 | 第105-106页 |
第七章 总结展望 | 第106-108页 |
·全文总结 | 第106-107页 |
·本文创新点 | 第107页 |
·工作展望 | 第107-108页 |
参考文献 | 第108-116页 |
发表论文和参加科研情况说明 | 第116-117页 |
致谢 | 第117页 |