低发射率ZnO红外隐身材料的理论与实验研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-15页 |
| ·引言 | 第7页 |
| ·低红外发射率材料的发展历程 | 第7-10页 |
| ·低红外发射率材料的研究现状 | 第10-13页 |
| ·填料 | 第10-12页 |
| ·粘结剂 | 第12-13页 |
| ·本文的主要内容 | 第13-15页 |
| 第二章 红外隐身原理及红外辐射机理研究 | 第15-25页 |
| ·红外隐身原理与隐身技术概述 | 第15-20页 |
| ·红外线的概念 | 第15页 |
| ·红外线在介质中的传播理论 | 第15-16页 |
| ·红外发射率及其影响因素 | 第16-18页 |
| ·红外隐身涂层的隐身原理 | 第18-19页 |
| ·红外隐身的技术手段 | 第19-20页 |
| ·红外吸收与辐射机理 | 第20-25页 |
| ·电子跃迁 | 第21页 |
| ·晶格振动与电磁波的作用 | 第21-23页 |
| ·半导体材料特有的吸收机制 | 第23-25页 |
| 第三章 ZnO电子结构及其属性研究 | 第25-43页 |
| ·密度泛函理论和软件简介 | 第25-31页 |
| ·密度泛函理论简介 | 第25-30页 |
| ·软件简介 | 第30-31页 |
| ·ZnO晶体材料的第一性原理研究 | 第31-43页 |
| ·理想ZnO电子结构模型 | 第31-33页 |
| ·理想ZnO晶体材料电子结构与布局分析 | 第33-36页 |
| ·掺杂ZnO晶体材料的第一性原理研究 | 第36-43页 |
| 第四章 掺杂ZnO红外发射率的实验研究 | 第43-53页 |
| ·实验方案 | 第43-44页 |
| ·样品的表征 | 第44-51页 |
| ·纯ZnO的发射率 | 第44-45页 |
| ·Sn掺杂ZnO | 第45-46页 |
| ·Al掺杂ZnO | 第46-48页 |
| ·碱金属掺杂ZnO | 第48-51页 |
| ·结果分析 | 第51-53页 |
| ·掺杂浓度对ZnO红外发射率的影响 | 第51页 |
| ·热处理温度对ZnO红外发射率的影响 | 第51-53页 |
| 第五章 总结 | 第53-55页 |
| 致谢 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-59页 |