| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-16页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·ZnO的结构和性质 | 第9-11页 |
| ·ZnO薄膜的应用 | 第11-12页 |
| ·掺杂ZnO薄膜的特性和现状研究 | 第12-14页 |
| ·柔性衬底 | 第14-15页 |
| ·本论文的主要研究内容 | 第15-16页 |
| 第二章 薄膜的制备及表征 | 第16-26页 |
| ·薄膜制备方法介绍 | 第16-20页 |
| ·分子束外延 | 第16-17页 |
| ·化学气相沉积法(CVD) | 第17页 |
| ·溶胶凝胶法(Sol-Gel) | 第17-18页 |
| ·金属有机化学气相淀积(MOCVD) | 第18-19页 |
| ·磁控溅射法 | 第19-20页 |
| ·磁控溅射镀膜设备简介 | 第20-22页 |
| ·薄膜的表征 | 第22-26页 |
| ·X射线衍射方法(XRD) | 第22-23页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第23-24页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第24-25页 |
| ·光致发光光谱(PL) | 第25-26页 |
| 第三章 Mo薄膜的制备及性能研究 | 第26-34页 |
| ·引言 | 第26页 |
| ·Mo薄膜的制备 | 第26-27页 |
| ·Mo薄膜的性能 | 第27-32页 |
| ·X射线衍射(XRD)测试 | 第27-29页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM)测试 | 第29-30页 |
| ·原子力显微镜(AFM)测试 | 第30-32页 |
| ·电学性能测试 | 第32页 |
| ·结论 | 第32-34页 |
| 第四章 ZnO/Mo/Si薄膜的制备及性能研究 | 第34-44页 |
| ·引言 | 第34页 |
| ·Si基ZnO薄膜的制备及性能测试 | 第34-38页 |
| ·引言 | 第34页 |
| ·薄膜的制备过程 | 第34-35页 |
| ·X射线衍射(XRD)测试 | 第35-36页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM)测试 | 第36-37页 |
| ·原子力显微镜(AFM)测试 | 第37页 |
| ·光致发光光谱(PL)测试 | 第37-38页 |
| ·采用Mo缓冲层后对ZnO薄膜性能的影响 | 第38-43页 |
| ·引言 | 第38-39页 |
| ·薄膜的制备 | 第39页 |
| ·X射线衍射(XRD)测试 | 第39-40页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM)测试 | 第40-41页 |
| ·原子力显微镜(AFM)测试 | 第41-42页 |
| ·光致发光光谱(PL)测试 | 第42-43页 |
| ·结论 | 第43-44页 |
| 第五章 不同溅射参数对于ZnO/Mo/Si薄膜性能的影响 | 第44-54页 |
| ·不同衬底温度对于ZnO/Mo/Si薄膜性能的影响 | 第44-49页 |
| ·X射线衍射(XRD)测试 | 第44-46页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM)测试 | 第46-47页 |
| ·原子力显微镜(AFM)测试 | 第47-49页 |
| ·光致发光光谱(PL)测试 | 第49页 |
| ·不同溅射时间对于ZnO/Mo/Si薄膜性能的影响 | 第49-53页 |
| ·X射线衍射(XRD)测试 | 第49-50页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM)测试 | 第50-51页 |
| ·原子力显微镜(AFM)测试 | 第51-52页 |
| ·光致发光光谱(PL)测试 | 第52-53页 |
| ·结论 | 第53-54页 |
| 第六章 结论 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-62页 |
| 攻读硕士期间发表的科研成果 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63页 |
