SnO2纳米材料的制备及性能表征
| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪言 | 第8-23页 |
| ·锡(Sn)简介 | 第8-10页 |
| ·锡的氧化物(SnO_2、SnO)简介 | 第10-16页 |
| ·锡氧化物的结构 | 第11页 |
| ·锡氧化物的性质 | 第11-16页 |
| ·锡氧化物的电学性质 | 第11-13页 |
| ·锡氧化物的光学性质 | 第13-16页 |
| ·纳米材料特性 | 第16-18页 |
| ·课题研究背景 | 第18-20页 |
| ·国内外研究现状 | 第20-21页 |
| ·本课题研究内容 | 第21-23页 |
| 第二章 实验 | 第23-33页 |
| ·实验仪器与试剂 | 第23-24页 |
| ·SnO_2纳米粉体制备工艺 | 第24-28页 |
| ·称量计算 | 第25页 |
| ·溶液的配置 | 第25页 |
| ·沉淀的生成 | 第25-26页 |
| ·物料混合及溶液pH值调节 | 第25页 |
| ·沉淀的生成 | 第25-26页 |
| ·沉淀的洗涤与分离 | 第26页 |
| ·共沸蒸馏 | 第26-27页 |
| ·干燥 | 第27页 |
| ·煅烧 | 第27-28页 |
| ·SnO_2纳米粉体的表征 | 第28-30页 |
| ·密度及相对密度测定 | 第28页 |
| ·差热分析 | 第28-29页 |
| ·透射电镜(TEM)分析 | 第29页 |
| ·X射线衍射(XRD)分析 | 第29页 |
| ·红外光谱(IR)分析 | 第29页 |
| ·电性能分析 | 第29-30页 |
| ·制备过程中的影响因素 | 第30-33页 |
| ·反应物料配比对产物的影响 | 第30页 |
| ·反应物浓度对产物的影响 | 第30-31页 |
| ·起始pH值对产物的影响 | 第31页 |
| ·表面活性剂对产物的影响 | 第31页 |
| ·氨水的滴加方式对产物的影响 | 第31页 |
| ·反应温度对产物的影响 | 第31页 |
| ·反应时间对产物的影响 | 第31-32页 |
| ·脱水方式对产物的影响 | 第32页 |
| ·烧结温度对产物的影响 | 第32-33页 |
| 第三章 实验结果与讨论 | 第33-56页 |
| ·均匀沉淀法制备原理理论分析 | 第33-35页 |
| ·均匀沉淀法热力学分析 | 第33-34页 |
| ·均匀沉淀法动力学分析 | 第34-35页 |
| ·晶核生成速率 | 第34-35页 |
| ·晶体生长速率 | 第35页 |
| ·SnO_2粉体表征及影响因素分析 | 第35-56页 |
| ·SnO_2粉体表观表征 | 第35-36页 |
| ·SnO_2粉体TG表征 | 第36-37页 |
| ·SnO_2粉体XRD表征 | 第37-38页 |
| ·SnO_2粉体TEM表征 | 第38-39页 |
| ·SnO_2粉体IR表征 | 第39-40页 |
| ·实验中各因素对SnO_2粉体的影响 | 第40-56页 |
| ·反应物料配比对产物的影响 | 第40-41页 |
| ·反应物浓度对产物的影响 | 第41-43页 |
| ·起始pH值对产物的影响 | 第43-46页 |
| ·表面活性剂对产物的影响 | 第46-47页 |
| ·氨水的滴加方式对产物的影响 | 第47-48页 |
| ·反应温度对产物的影响 | 第48-49页 |
| ·反应时间对产物的影响 | 第49-51页 |
| ·脱水方式对产物的影响 | 第51-53页 |
| ·烧结温度对产物物相的影响 | 第53-56页 |
| 结论 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-62页 |
| 附录 | 第62页 |
