干冰微粒喷射法清洗和抛光ITO玻璃
摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-10页 |
第一章 绪论 | 第10-22页 |
·研究背景 | 第10-11页 |
·ITO 玻璃清洗研究现状 | 第11-18页 |
·ITO 玻璃清洗存在的问题和发展方向 | 第18-19页 |
·干冰微粒喷射清洗的历史和现状 | 第19-20页 |
·本课题研究的内容 | 第20-22页 |
第二章 干冰微粒喷射法清洗相关理论 | 第22-36页 |
·ITO 玻璃的表面状态与沾污类型 | 第22-24页 |
·ITO 玻璃的表面状态 | 第22-23页 |
·ITO 玻璃表面沾污的分类 | 第23-24页 |
·吸附与黏附力 | 第24-28页 |
·吸附现象及机理 | 第24-26页 |
·沾污颗粒与ITO 基板间黏附力的形式 | 第26-28页 |
·二氧化碳的物理性质 | 第28-30页 |
·二氧化碳的密度 | 第28页 |
·相平衡关系 | 第28-29页 |
·汽化潜热、升华热、熔解热 | 第29-30页 |
·二氧化碳的固化 | 第30-34页 |
·等焓节流 | 第30-33页 |
·二氧化碳的固化过程 | 第33-34页 |
·干冰微粒喷射法清洗原理 | 第34-36页 |
·干冰微粒喷射法去除固体颗粒物的机理 | 第34-35页 |
·干冰微粒喷射法去除有机污垢的机理 | 第35-36页 |
第三章 干冰微粒喷射法清洗的研究 | 第36-56页 |
·干冰微粒喷射实验系统及参数 | 第36-38页 |
·干冰微粒喷射实验系统 | 第36-38页 |
·试验条件 | 第38页 |
·ITO 玻璃表面洁净度的表征和分析 | 第38-41页 |
·XPS 与ITO 玻璃表面元素 | 第38-39页 |
·SEM+EDS 与ITO 玻璃表面状态 | 第39-40页 |
·接触角与ITO 玻璃表面浸润性分析 | 第40-41页 |
·正交试验 | 第41-49页 |
·正交试验设计 | 第42-43页 |
·试验数据分析 | 第43-49页 |
·实验结果与分析 | 第49-56页 |
·表面浸润性分析 | 第49页 |
·表面元素分析 | 第49-51页 |
·表面形态和能谱分析 | 第51-56页 |
第四章 OLED 器件的制备与测试 | 第56-62页 |
·OLED 器件制备的试验仪器 | 第56页 |
·OLED 器件的制备 | 第56-59页 |
·ITO 玻璃的光刻 | 第57-58页 |
·ITO 玻璃的表面清洗 | 第58页 |
·器件制备 | 第58-59页 |
·器件性能测试 | 第59页 |
·OLED 性能参数测试 | 第59-62页 |
·评价OLED 性能的主要参数 | 第59-60页 |
·测试及分析 | 第60-62页 |
第五章 干冰微粒喷射法抛光ITO 玻璃的研究 | 第62-70页 |
·精密抛光发展研究现状 | 第62-65页 |
·精密抛光存在的问题和发展方向 | 第65-66页 |
·干冰微粒抛光ITO 玻璃 | 第66页 |
·ITO 玻璃表面粗糙度表征 | 第66-68页 |
·抛光实验与结果分析 | 第68-70页 |
第六章 结论 | 第70-73页 |
·研究总结 | 第70-71页 |
·主要创新点 | 第71页 |
·需进一步开展的工作 | 第71-73页 |
致谢 | 第73-74页 |
参考文献 | 第74-79页 |
附录 | 第79-80页 |
硕士研究生期间发表的论文 | 第80-81页 |