首页--工业技术论文--无线电电子学、电信技术论文--真空电子技术论文--电子束器件、X射线管、阴极射线管论文--显示器件论文

干冰微粒喷射法清洗和抛光ITO玻璃

摘要第1-5页
Abstract第5-10页
第一章 绪论第10-22页
   ·研究背景第10-11页
   ·ITO 玻璃清洗研究现状第11-18页
   ·ITO 玻璃清洗存在的问题和发展方向第18-19页
   ·干冰微粒喷射清洗的历史和现状第19-20页
   ·本课题研究的内容第20-22页
第二章 干冰微粒喷射法清洗相关理论第22-36页
   ·ITO 玻璃的表面状态与沾污类型第22-24页
     ·ITO 玻璃的表面状态第22-23页
     ·ITO 玻璃表面沾污的分类第23-24页
   ·吸附与黏附力第24-28页
     ·吸附现象及机理第24-26页
     ·沾污颗粒与ITO 基板间黏附力的形式第26-28页
   ·二氧化碳的物理性质第28-30页
     ·二氧化碳的密度第28页
     ·相平衡关系第28-29页
     ·汽化潜热、升华热、熔解热第29-30页
   ·二氧化碳的固化第30-34页
     ·等焓节流第30-33页
     ·二氧化碳的固化过程第33-34页
   ·干冰微粒喷射法清洗原理第34-36页
     ·干冰微粒喷射法去除固体颗粒物的机理第34-35页
     ·干冰微粒喷射法去除有机污垢的机理第35-36页
第三章 干冰微粒喷射法清洗的研究第36-56页
   ·干冰微粒喷射实验系统及参数第36-38页
     ·干冰微粒喷射实验系统第36-38页
     ·试验条件第38页
   ·ITO 玻璃表面洁净度的表征和分析第38-41页
     ·XPS 与ITO 玻璃表面元素第38-39页
     ·SEM+EDS 与ITO 玻璃表面状态第39-40页
     ·接触角与ITO 玻璃表面浸润性分析第40-41页
   ·正交试验第41-49页
     ·正交试验设计第42-43页
     ·试验数据分析第43-49页
   ·实验结果与分析第49-56页
     ·表面浸润性分析第49页
     ·表面元素分析第49-51页
     ·表面形态和能谱分析第51-56页
第四章 OLED 器件的制备与测试第56-62页
   ·OLED 器件制备的试验仪器第56页
   ·OLED 器件的制备第56-59页
     ·ITO 玻璃的光刻第57-58页
     ·ITO 玻璃的表面清洗第58页
     ·器件制备第58-59页
     ·器件性能测试第59页
   ·OLED 性能参数测试第59-62页
     ·评价OLED 性能的主要参数第59-60页
     ·测试及分析第60-62页
第五章 干冰微粒喷射法抛光ITO 玻璃的研究第62-70页
   ·精密抛光发展研究现状第62-65页
   ·精密抛光存在的问题和发展方向第65-66页
   ·干冰微粒抛光ITO 玻璃第66页
   ·ITO 玻璃表面粗糙度表征第66-68页
   ·抛光实验与结果分析第68-70页
第六章 结论第70-73页
   ·研究总结第70-71页
   ·主要创新点第71页
   ·需进一步开展的工作第71-73页
致谢第73-74页
参考文献第74-79页
附录第79-80页
硕士研究生期间发表的论文第80-81页

论文共81页,点击 下载论文
上一篇:金融集聚影响区域经济增长的机制研究
下一篇:管理者组织社会化的影响因素与影响效果研究