摘要 | 第1-4页 |
Abstract | 第4-7页 |
第1章 引言 | 第7-9页 |
第2章 集成电路基础知识介绍 | 第9-14页 |
·集成电路概述 | 第9-11页 |
·集成电路的发展历史及现状 | 第9-10页 |
·集成电路的概念 | 第10-11页 |
·集成电路布图设计 | 第11-13页 |
·集成电路布图设计的概念 | 第11-12页 |
·集成电路布图设计的功能 | 第12-13页 |
·集成电路法律保护的特点 | 第13-14页 |
第3章 集成电路反向工程概述 | 第14-23页 |
·集成电路反向工程的概念以及各国的规定 | 第14-16页 |
·集成电路反向工程的概念 | 第14页 |
·美国有关集成电路反向工程的立法史 | 第14-15页 |
·各国对集成电路反向工程的法律规定 | 第15-16页 |
·反向工程与复制侵权行为 | 第16-23页 |
·反向工程与复制侵权行为的混淆 | 第16-17页 |
·Brooktree v. Advanced Micro Devices | 第17-20页 |
·Altera Corporation v. Clear Logic | 第20-22页 |
·反向工程行为与复制侵权行为的界定 | 第22-23页 |
第4章 布图设计复制侵权的判定 | 第23-27页 |
·布图设计复制侵权行为 | 第23-24页 |
·完全复制侵权 | 第23页 |
·部分复制侵权 | 第23-24页 |
·布图设计复制侵权的判断标准 | 第24-27页 |
·实质相似理论 | 第24-25页 |
·实质相似的判断 | 第25-27页 |
第5章 集成电路反向工程的判定 | 第27-37页 |
·反向工程中的独创性 | 第27-30页 |
·独创性的起源 | 第27-28页 |
·集成电路保护法中对独创性的定义 | 第28-30页 |
·独创性的判断标准 | 第30-37页 |
·书面痕迹判断标准 | 第30-31页 |
·实质相同判断标准 | 第31-32页 |
·改进的实质相同判断标准 | 第32-33页 |
·性能优化判断标准 | 第33页 |
·功能改进判断标准 | 第33-35页 |
·我国应采用的判断标准 | 第35-37页 |
第6章 结论 | 第37-38页 |
参考文献 | 第38-40页 |
致谢 | 第40-41页 |
个人简历 | 第41页 |