| 中文摘要 | 第1-4页 |
| 英文摘要 | 第4-8页 |
| 1 绪论 | 第8-17页 |
| ·ZAO 薄膜的特性 | 第8-9页 |
| ·ZAO 薄膜的应用前景 | 第9-10页 |
| ·ZAO 薄膜的研究现状 | 第10-15页 |
| ·ZAO 薄膜在国外的研究现状 | 第11-14页 |
| ·ZAO 薄膜在国内的研究现状 | 第14-15页 |
| ·ZAO 薄膜目前存在的问题及发展趋势 | 第15-16页 |
| ·本课题的研究内容、目的 | 第16-17页 |
| 2 ZAO 薄膜的制备方法、微观结构和性能分析 | 第17-31页 |
| ·ZAO 薄膜的制备方法 | 第17-20页 |
| ·脉冲激光沉积法 | 第17页 |
| ·分子束外延法 | 第17页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第17-18页 |
| ·喷雾热解法 | 第18页 |
| ·化学气相沉积法 | 第18页 |
| ·溅射法 | 第18-20页 |
| ·ZAO 薄膜的微观结构 | 第20-24页 |
| ·ZAO 薄膜的性能分析 | 第24-30页 |
| ·X 射线衍射(XRD)分析 | 第24-26页 |
| ·ZAO 薄膜的电学性能分析 | 第26-28页 |
| ·ZAO 薄膜的光学性能分析 | 第28-29页 |
| ·ZAO 薄膜的 SEM 分析 | 第29-30页 |
| ·本章小结 | 第30-31页 |
| 3 直流反应磁控溅射 ZAO 薄膜设备及实验设计 | 第31-37页 |
| ·TXZ-600 磁控溅射镀膜设备 | 第31-32页 |
| ·磁控溅射镀膜机操作程序 | 第32-33页 |
| ·磁控溅射镀膜机工作原理 | 第33-35页 |
| ·溅射原理 | 第33-34页 |
| ·反应磁控溅射原理 | 第34-35页 |
| ·直流反应磁控溅射 ZAO 薄膜实验设计 | 第35-37页 |
| 4 直流反应磁控溅射制备 ZAO 薄膜实验及性能检测 | 第37-53页 |
| ·靶材的选取 | 第37页 |
| ·探索实验参数 | 第37-41页 |
| ·确定靶基距 | 第37-38页 |
| ·确定气体压强 | 第38-40页 |
| ·确定其他参数 | 第40-41页 |
| ·实验及结果分析 | 第41-51页 |
| ·气流场强度对直流磁控溅射 ZAO 薄膜性能的影响 | 第41-45页 |
| ·薄膜厚度对ZAO 透明导电膜性能的影响 | 第45-49页 |
| ·退火处理对薄膜结构特性的影响 | 第49-51页 |
| ·本章小结 | 第51-53页 |
| 5结论 | 第53-55页 |
| 参考文献 | 第55-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 附：1.作者在攻读硕士学位期间发表的论文目录、科研情况 | 第60-61页 |
