| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-20页 |
| ·本课题的研究目的、意义 | 第9页 |
| ·国内外研究现状 | 第9-19页 |
| ·微弧氧化技术简介 | 第9-10页 |
| ·微弧氧化技术的优越性 | 第10-11页 |
| ·微弧氧化的过程 | 第11-12页 |
| ·微弧氧化电击穿机理 | 第12-14页 |
| ·各种参数对微弧氧化膜性能的影响 | 第14-19页 |
| ·本文研究的主要内容 | 第19-20页 |
| 第2章 实验方法 | 第20-24页 |
| ·实验材料及其预处理 | 第20页 |
| ·微弧氧化正交实验设计 | 第20-21页 |
| ·微弧氧化实验设备及过程 | 第21-22页 |
| ·微弧氧化陶瓷膜的观察、分析和表征 | 第22-24页 |
| 第3章 TB_2钛合金微弧氧化工艺的确定 | 第24-41页 |
| ·微弧氧化工艺参数的摸索 | 第24-28页 |
| ·Na_3PO_4溶液中微弧氧化工艺参数探索 | 第24-26页 |
| ·NaAlO_2溶液中微弧氧化工艺参数探索 | 第26-27页 |
| ·Na_2SiO_3溶液中微弧氧化工艺参数探索 | 第27-28页 |
| ·NaAlO_2溶液中微弧氧化正交实验 | 第28-35页 |
| ·NaAlO_2溶液中微弧氧化陶瓷膜厚度的极差和方差分析 | 第29-32页 |
| ·NaAlO_2溶液中微弧氧化陶瓷膜硬度的极差和方差分析 | 第32-35页 |
| ·Na_2SiO_3溶液中微弧氧化正交实验 | 第35-40页 |
| ·Na_2SiO_3溶液中微弧氧化陶瓷膜厚度的极差和方差分析 | 第35-37页 |
| ·Na_2SiO_3溶液中微弧氧化陶瓷膜硬度的极差和方差分析 | 第37-40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 第4章 微弧氧化陶瓷膜的断面观察 | 第41-49页 |
| ·铝酸钠溶液中微弧氧化陶瓷膜截面的形貌 | 第41-42页 |
| ·硅酸钠溶液中微弧氧化陶瓷膜截面的宏观形貌 | 第42-43页 |
| ·微弧氧化陶瓷膜截面的微观形貌和成分分析 | 第43-47页 |
| ·微弧氧化陶瓷膜厚度随时间的变化规律 | 第47页 |
| ·本章小结 | 第47-49页 |
| 第5章 微弧氧化的过程和机理 | 第49-60页 |
| ·微弧氧化陶瓷膜的生长过程 | 第49-54页 |
| ·预氧化阶段 | 第49-52页 |
| ·微弧氧化阶段 | 第52-54页 |
| ·微弧氧化陶瓷膜的相组成 | 第54-56页 |
| ·微弧氧化的机理 | 第56-59页 |
| ·预氧化阶段 | 第56页 |
| ·微弧氧化阶段 | 第56-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 结论 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-66页 |
| 致谢 | 第66页 |
