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电子束蒸发技术生长高迁移率IWO(In2O3:WO3)薄膜的研究

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-8页
第一章 绪论第8-12页
 §1-1 研究背景第8-9页
 §1-2 研究现状第9-11页
 §1-3 研究内容第11-12页
第二章 实验方法和测试技术第12-16页
 §2-1 实验方法和薄膜生长第12-15页
  2-1-1 薄膜的形成第12-13页
  2-1-2 掺杂透明导电氧化物薄膜的特性分析第13-14页
  2-1-3 实验方法第14-15页
 §2-2 薄膜表征第15-16页
第三章 IWO(In_2O_3:WO_3)透明导电氧化物薄膜的生长和分析第16-65页
 §3-1 工艺参数对IWO(In_2O_3:WO_3)薄膜性能的影响分析第16-37页
  3-1-1 WO_3 掺杂浓度对IWO(In_2O_3:WO_3)薄膜性能的影响第16-21页
  3-1-2 衬底温度对IWO(In_2O_3:WO_3)薄膜性能的影响第21-25页
  3-1-3 氧流量对IWO(In_2O_3:WO_3)薄膜性能的影响第25-29页
  3-1-4 薄膜厚度对IWO(In_2O_3:WO_3)薄膜性能的影响第29-32页
  3-1-5 WO_3、MoO_3 共掺对IMWO(In_2O_3:WO_3/MoO_3)薄膜性能的影响第32-37页
 §3-2 退火处理对IWO(In_2O_3:WO_3)薄膜性能的影响分析第37-49页
  3-2-1 空气退火对IWO(In_2O_3:WO_3)薄膜性能的影响第37-41页
  3-2-2 Ar 氛围退火对IWO(In_2O_3:WO_3)薄膜性能的影响第41-45页
  3-2-3 N_2 氛围退火对IWO(In_2O_3:WO_3)薄膜性能的影响第45-49页
 §3-3 阻挡层对IWO(In_2O_3:WO_3)薄膜性能的影响分析第49-63页
  3-3-1 SiO_2 阻挡层对IWO(In_2O_3:WO_3)薄膜性能的影响第49-55页
  3-3-2 Al_2O_3 阻挡层对IWO(In_2O_3:WO_3)薄膜性能的影响第55-59页
  3-3-3 梯度生长速率对IWO(In_2O_3:WO_3)薄膜性能的影响第59-63页
 §3-4 IWO(In_2O_3:WO_3)薄膜在有机太阳电池中的应用第63-65页
第四章 结论第65-66页
参考文献第66-69页
致谢第69-70页
攻读学位期间所取得的相关科研成果第70页

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