| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-9页 |
| 第一章 引言 | 第9-18页 |
| ·ZnO 材料的基本性质 | 第10-12页 |
| ·ZnO 材料的研究进展 | 第12-15页 |
| ·当前ZnO 材料研究中的主要方向 | 第15页 |
| 参考文献 | 第15-18页 |
| 第二章 ZnO 材料制备与表征方法 | 第18-35页 |
| ·纳米ZnO 的制备技术 | 第18-22页 |
| ·汽相输运法 | 第18-19页 |
| ·金属有机化合物汽相沉积（MOCVD） | 第19-20页 |
| ·电子束蒸发 | 第20-21页 |
| ·高温退火设备 | 第21-22页 |
| ·常用表征手段介绍 | 第22-30页 |
| ·X 射线衍射谱 | 第22-23页 |
| ·透射和吸收光谱 | 第23-24页 |
| ·拉曼光谱 | 第24-25页 |
| ·X 射线光电子能谱(XPS) | 第25-27页 |
| ·微区光致发光谱 | 第27-28页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM） | 第28-29页 |
| ·透射电子显微镜（TEM） | 第29-30页 |
| ·静态高压技术在ZnO 研究中的应用 | 第30-32页 |
| ·小结 | 第32页 |
| 参考文献 | 第32-35页 |
| 第三章 ZnO 纳米晶中可见光发射的控制 | 第35-51页 |
| ·氧化锌的可见发光研究近况 | 第35-37页 |
| ·ZnO 纳米晶薄膜的制备 | 第37-38页 |
| ·磷钝化的ZnO 纳米晶薄膜的结构 | 第38-40页 |
| ·X-射线衍射谱(XRD) | 第38-39页 |
| ·X-射线光电子能谱(XPS) | 第39-40页 |
| ·磷钝化的ZnO 纳米晶的发光特性 | 第40-47页 |
| ·室温光致发光谱（一）—可以钝化的可见光发射 | 第40-42页 |
| ·室温光致发光谱（二）—可以控制的可见光发射 | 第42-43页 |
| ·变温光致发光谱 | 第43-47页 |
| ·三层核壳模型对可控发光的解释 | 第47-48页 |
| ·本章小结 | 第48页 |
| 参考文献 | 第48-51页 |
| 第四章 高温下ZnO 纳米结构激子发射特性研究 | 第51-78页 |
| ·纳米结构ZnO 研究进展介绍 | 第51-57页 |
| ·ZnO 材料晶体结构和表面 | 第52-53页 |
| ·ZnO 基本生长结构 | 第53页 |
| ·纳米结构ZnO 的研究概况 | 第53-57页 |
| ·ZnO 纳米片的制备 | 第57-59页 |
| ·ZnO 纳米片的发光特性 | 第59-63页 |
| ·量子阱中激子束缚能增加理论 | 第63-72页 |
| ·量子限域效应引起的激子能量和激子束缚能增加的区别 | 第72-75页 |
| ·本章小结 | 第75页 |
| 参考文献 | 第75-78页 |
| 第五章 高压下ZnO 材料结构和光学性质研究 | 第78-103页 |
| ·ZnO 材料的晶体结构和高压研究进展 | 第78-84页 |
| ·ZnO 材料的晶体结构及声子模式 | 第78-80页 |
| ·ZnO 在高压下结构相变及能带的变化 | 第80-84页 |
| ·用拉曼手段研究ZnO 高压下的结构相变 | 第84-89页 |
| ·实验 | 第84-85页 |
| ·常压下ZnO 的拉曼谱 | 第85-86页 |
| ·高压下ZnO 的拉曼谱 | 第86-89页 |
| ·高压下ZnO 材料发光研究 | 第89-99页 |
| ·实验 | 第90页 |
| ·ZnO 体单晶高压下的光致发光谱 | 第90-93页 |
| ·ZnO 纳米片高压下的光致发光谱 | 第93-95页 |
| ·ZnO 纳米管高压下的光致发光谱 | 第95-99页 |
| ·本章小结 | 第99页 |
| 参考文献 | 第99-103页 |
| 第六章 结论 | 第103-104页 |
| 作者简介 | 第104页 |
| 攻读博士学位期间承担的主要工作及成果 | 第104-106页 |
| 致谢 | 第106-107页 |