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反应溅射形成氮化钛复合渗镀层耐磨耐腐蚀性能的研究

第一章 文献综述第1-39页
   ·TiN金属陶瓷的研究概况第15-17页
     ·TiN的性质及其结构第15-16页
     ·TiN涂层研究进展第16-17页
   ·表面工程技术概述第17-23页
     ·零件表面失效第17-18页
     ·表面工程技术概括第18-19页
     ·表面技术简介第19-23页
   ·双层辉光离子渗金属技术简介第23-27页
     ·引言第23-24页
     ·双层辉光离子渗金属技术的原理和特点第24-26页
     ·双层辉光离子渗金属技术的应用及进展第26-27页
   ·反应渗镀技术第27-28页
   ·等离子体概述第28-35页
     ·等离子体特征及分类第28-29页
     ·辉光等离子体放电理论第29-35页
 参考文献:第35-39页
第二章 课题的提出第39-48页
   ·课题的研究背景第39-40页
   ·国内目前PVD与CVD技术的研究与发展第40-41页
   ·目前制备TiN涂层的方法及存在的问题第41-43页
     ·制备方法第41-42页
     ·存在的问题第42-43页
   ·课题的提出及基本思路第43-47页
     ·课题的提出第43-44页
     ·课题的基本工艺方案第44页
     ·课题研究的主要内容第44-45页
     ·本课题在研究领域所处的地位第45-46页
     ·课题研究的市场前景第46-47页
 参考文献第47-48页
第三章 TiN复合渗镀层工艺试验研究第48-63页
   ·引言第48页
   ·试验原理第48-49页
   ·试验设备及结构布置第49-51页
     ·试验设备第49-50页
     ·结构布置第50-51页
   ·试验材料第51页
   ·试验步骤第51-52页
   ·检测设备和分析方法第52页
   ·工艺试验结果第52-60页
     ·辉光等离子渗Ti工艺参数的确定第53-54页
     ·TiN复合渗镀层制备工艺参数的确定第54-58页
     ·PVD沉积TiN工艺参数的确定第58-59页
     ·PVD沉积TiB_2工艺参数的确定第59-60页
   ·本章小结第60-61页
 参考文献:第61-63页
第四章 TiN复合渗镀层的组织结构及摩擦磨损性能第63-87页
   ·TiN复合渗镀层的成分及其组织特征第63-75页
     ·TiN复合渗镀层的微观形貌第63-67页
     ·TiN复合渗镀层截面金相组织第67-69页
     ·TiN复合渗镀层原子力显微镜立体图第69-71页
     ·TiN复合渗镀层成分分布第71-72页
     ·TiN复合渗镀层的相结构第72-75页
   ·TiN复合渗镀层的性能第75-85页
     ·显微硬度的测定第75-77页
     ·结合强度的测定第77-78页
     ·摩擦磨损性能试验第78-85页
   ·本章小结第85-86页
 参考文献:第86-87页
第五章 TiN复合渗镀层耐腐蚀性能的研究第87-119页
   ·引言第87-88页
   ·电化学腐蚀试验第88-110页
     ·电化学腐蚀基本概念第88-90页
     ·电化学腐蚀速度的测定第90-91页
     ·试验装置及条件第91-93页
     ·试验结果与讨论第93-110页
   ·静态浸泡腐蚀试验第110-117页
     ·引言第110页
     ·试样制备及方法第110-111页
     ·试验结果第111-117页
   ·本章小结第117-118页
 参考文献第118-119页
第六章 辉光放电等离子体试验研究第119-144页
   ·辉光放电等离子体相关参数的测试第119-122页
     ·引言第119-120页
     ·辉光放电等离子体相关参数测试依据第120-122页
     ·辉光放电等离子体测试装置第122页
   ·等离子放电电子温度的研究第122-132页
     ·试样布置第122-123页
     ·试验过程第123-124页
     ·理论分析第124-126页
     ·电子温度的计算第126-127页
     ·试验结果与讨论第127-132页
   ·等离子放电电子密度的研究第132-141页
     ·试样布置第132-133页
     ·理论分析第133-137页
     ·试验结果与讨论第137-141页
   ·本章小结第141-142页
 参考文献第142-144页
第七章: 结论第144-146页
致谢第146-147页
攻读硕士学位期间发表学术论文第147-149页

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