| 中文摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-7页 |
| 前言 | 第7-8页 |
| 第一章 文献综述 | 第8-28页 |
| ·甲烷部分氧化制合成气反应研究现状 | 第8-12页 |
| ·概述 | 第8页 |
| ·催化剂研究进展 | 第8-12页 |
| ·等离子体简介 | 第12-27页 |
| ·等离子体基本概念及分类 | 第12-13页 |
| ·产生等离子体的几种放电形式 | 第13-22页 |
| ·等离子体的诊断方法 | 第22页 |
| ·低温等离子体技术在催化领域的应用 | 第22-26页 |
| ·催化剂再生 | 第26-27页 |
| ·本论文工作的提出及主要研究内容 | 第27-28页 |
| 第二章 实验部分 | 第28-36页 |
| ·实验原料及规格 | 第28-29页 |
| ·催化剂制备 | 第29-30页 |
| ·采用等离子体浸渍法制备催化剂 | 第29页 |
| ·载量的配置 | 第29页 |
| ·等离子体处理装置 | 第29-30页 |
| ·催化剂活性评价 | 第30-34页 |
| ·实验流程 | 第30-31页 |
| ·实验装置及仪器介绍 | 第31-32页 |
| ·催化剂活性评价及反应条件 | 第32页 |
| ·分析方法 | 第32-33页 |
| ·催化剂活性评价指标 | 第33-34页 |
| ·催化剂表征 | 第34-36页 |
| ·比表面测定 | 第34页 |
| ·热失重分析 | 第34页 |
| ·TEM 测定 | 第34页 |
| ·XRD 测定 | 第34-35页 |
| ·X 射线光电子能谱(XPS)测定 | 第35-36页 |
| 第三章 等离子体对添加贵金属 Pt 的 Ni 基催化剂的表面改性 | 第36-45页 |
| ·等离子体对Ni 基催化剂的表面改性作用 | 第36-37页 |
| ·比表面分析 | 第37-38页 |
| ·TEM 分析 | 第38-39页 |
| ·热失重分析 | 第39页 |
| ·XRD 分析 | 第39-42页 |
| ·XPS 分析 | 第42-44页 |
| ·小结 | 第44-45页 |
| 第四章 不同压强下等离子体处理对催化剂性能的影响 | 第45-54页 |
| ·不同压强下等离子体对极板电压的影响 | 第45-49页 |
| ·抽真空方式对极板电压的影响 | 第45-47页 |
| ·电极材质对极板电压的影响 | 第47-48页 |
| ·不同放电气体对极板电压的影响 | 第48-49页 |
| ·不同压强下等离子体对催化剂的改性作用 | 第49-51页 |
| ·比表面的测定 | 第51页 |
| ·热失重分析 | 第51-52页 |
| ·特定低压下等离子体处理催化剂最佳处理时间的探讨 | 第52-53页 |
| ·小结 | 第53-54页 |
| 第五章 混合气氛等离子体对催化剂处理效果的影响 | 第54-62页 |
| ·混合气氛等离子体对Ni 基催化剂的改性作用 | 第54-56页 |
| ·比表面测定 | 第56-57页 |
| ·热失重分析 | 第57页 |
| ·XRD 分析 | 第57-59页 |
| ·XPS 分析 | 第59-60页 |
| ·小结 | 第60-62页 |
| 第六章 结论 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-68页 |
| 发表论文及科研情况 | 第68-69页 |
| 附录 POM 反应体系气体组成色谱图 | 第69-72页 |
| 致谢 | 第72页 |