| 第一章 绪论 | 第1-21页 |
| 1．1 引言 | 第11-13页 |
| 1．2 化学沉积基础及其发展 | 第13-16页 |
| 1．2．1 化学沉积镀液的分类 | 第14页 |
| 1．2．2 化学镀液的组成 | 第14-15页 |
| 1．2．3 化学镀反应的机理 | 第15页 |
| 1．2．4 化学镀的发展 | 第15-16页 |
| 1．3 稀土元素及其应用 | 第16-19页 |
| 1．3．1 稀土元素简介 | 第16页 |
| 1．3．2 稀土元素的结构特点 | 第16-17页 |
| 1．3．3 稀土元素的化学性质 | 第17-18页 |
| 1．3．4 稀土元素的磁性 | 第18-19页 |
| 1．4 稀土应用的进展（磁性和表面沉积） | 第19-21页 |
| 第二章 实验材料和方法 | 第21-24页 |
| 2．1 实验方法 | 第21-23页 |
| 2．1．1 正交试验 | 第21页 |
| 2．1．2 镀液的配制 | 第21-22页 |
| 2．1．3 沉积工艺流程 | 第22页 |
| 2．1．4 沉积速率的测定 | 第22页 |
| 2．1．5 组织结构 | 第22页 |
| 2．1．6 显微硬度 | 第22页 |
| 2．1．7 磁学参数测定 | 第22-23页 |
| 2．2 实验用基体材料 | 第23页 |
| 2．3 仪器和设备 | 第23-24页 |
| 第三章 稀土元素对化学沉积钴基薄膜合金的工艺的影响研究 | 第24-51页 |
| 3．1 化学沉积CoNiP薄膜工艺的研究 | 第24-33页 |
| 3．1．1 镀液配方正交试验 | 第24-26页 |
| 3．1．2 正交试验回归分析 | 第26-33页 |
| 3．2 稀土元素对化学沉积Co-Ni-P薄膜工艺的影响 | 第33-39页 |
| 3．2．1 RE化合物浓度对沉积速率的影响 | 第33-34页 |
| 3．2．2 各组元对沉积速率的影响 | 第34-37页 |
| 3．2．3 镀液稳定性、结合力和表面质量 | 第37-39页 |
| 3．3 化学沉积钴硼薄膜工艺研究 | 第39-41页 |
| 3．3．1 Co-B配方的优化选用 | 第39页 |
| 3．3．2 分析结果 | 第39-41页 |
| 3．4 稀土元素对Co-B化学沉积薄膜的工艺影响研究 | 第41-50页 |
| 3．4．1 稀土元素对沉积速度的影响 | 第41-43页 |
| 3．4．2 各组元的影响 | 第43-48页 |
| 3．4．3 负载因子的影响 | 第48页 |
| 3．4．4 镀膜与基体的结合力 | 第48-49页 |
| 3．4．5 分析结果 | 第49-50页 |
| 本章小结 | 第50-51页 |
| 第四章 稀土元素介入化学沉积钴硼薄膜的电化学分析 | 第51-56页 |
| 4．1 电化学分析实验装置 | 第51页 |
| 4．2 实验曲线分析 | 第51-55页 |
| 本章小结 | 第55-56页 |
| 第五章 化学沉积稀土元素钴基薄膜的组织结构 | 第56-65页 |
| 5．1 沉积膜成分分析 | 第56-58页 |
| 5．2 沉积膜结构 | 第58-62页 |
| 5．2．1 X-ray衍射结果 | 第58-59页 |
| 5．2．2 透射电镜分析 | 第59-62页 |
| 5．3 稀土元素对Co-B薄膜结构的影响 | 第62-64页 |
| 本章小结 | 第64-65页 |
| 第六章 化学沉积稀土钴硼薄膜的性能 | 第65-77页 |
| 6．1 薄膜显微硬度 | 第65-66页 |
| 6．2 薄膜的磁性能 | 第66-76页 |
| 本章小结 | 第76-77页 |
| 第七章 结论 | 第77-79页 |
| 参考文献 | 第79-82页 |
