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以SiO2为基质的含N类复合分离材料的研究

中文摘要第1-7页
一. 离子分离高分子材料的研究进展第7-21页
二. 多孔SiO_2表面水合技术研究第21-30页
三. 带Br端基的活性膜/SiO_2复合体的合成及表征第30-39页
四. 以SiO_2为基质的含N聚合物复合分离膜的制备第39-47页
五. 以SiO_2为基质的含氮新型分离材料的吸附性能研究第47-54页
六. 结论第54-55页
致谢第55页

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