磁控溅射镀膜机离子流密度及能量的测量研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-39页 |
| ·引言 | 第11-12页 |
| ·等离子体技术 | 第12-27页 |
| ·等离子体的性质 | 第12-13页 |
| ·等离子体鞘层 | 第13-15页 |
| ·气体放电 | 第15-17页 |
| ·等离子体的研究现状 | 第17-27页 |
| ·磁控溅射镀膜 | 第27-33页 |
| ·溅射镀膜原理 | 第27-29页 |
| ·磁控溅射沉积镀膜机理 | 第29-30页 |
| ·磁控溅射镀膜的特点 | 第30-31页 |
| ·磁控溅射技术类型 | 第31-32页 |
| ·磁控溅射的应用 | 第32-33页 |
| ·薄膜的生长过程 | 第33-35页 |
| ·影响薄膜沉积的工艺参数 | 第35-36页 |
| ·本文的研究的目的、意义和内容 | 第36-38页 |
| ·研究的目的、意义 | 第36-37页 |
| ·研究内容 | 第37-38页 |
| ·本章小结 | 第38-39页 |
| 第2章 磁控溅射镀膜机离子流密度的测量 | 第39-65页 |
| ·磁控溅射镀膜对薄膜均匀性的影响研究现状 | 第39-41页 |
| ·离子流电流密度 | 第41-42页 |
| ·法拉第探针法诊断等离子体 | 第42-46页 |
| ·法拉第探针 | 第42-43页 |
| ·法拉第探针的必备条件 | 第43-45页 |
| ·法拉第探针的结构设计 | 第45-46页 |
| ·磁控溅射镀膜机的简介 | 第46-48页 |
| ·数据采集系统 | 第48-50页 |
| ·实验过程 | 第50-52页 |
| ·实验数据分析 | 第52-62页 |
| ·离子流电流密度与负偏压的关系 | 第52-53页 |
| ·离子流电流密度的分布 | 第53-57页 |
| ·射频放电功率对离子电流密度的影响 | 第57-59页 |
| ·工作气压对离子电流密度的影响 | 第59-61页 |
| ·数据验证 | 第61-62页 |
| ·实验结果 | 第62页 |
| ·本章小结 | 第62-65页 |
| 第3章 磁控溅射镀膜机离子流能量的测量 | 第65-75页 |
| ·离子流能量及离子流能量对薄膜性能的影响 | 第65-67页 |
| ·等离子体的离子射向靶材的运动过程 | 第65-66页 |
| ·离子在基片表面的运动过程 | 第66-67页 |
| ·法拉第能量分析器测量离子能量的工作原理 | 第67-69页 |
| ·法拉第能量分析器结构及测量电路 | 第67页 |
| ·法拉第能量分析器的基本原理 | 第67-69页 |
| ·实验过程 | 第69-70页 |
| ·数据分析 | 第70-74页 |
| ·离子电流与正偏压的关系 | 第70页 |
| ·离子能量的分布 | 第70-71页 |
| ·数据验证 | 第71-74页 |
| ·实验结果 | 第74页 |
| ·本章小结 | 第74-75页 |
| 第4章 结论与展望 | 第75-77页 |
| ·结论 | 第75-76页 |
| ·展望 | 第76-77页 |
| 参考文献 | 第77-83页 |
| 致谢 | 第83页 |
