| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-9页 |
| 绪论 | 第9-17页 |
| 一、聚四氟乙烯结构氟碳聚合物薄膜的研究背景 | 第9页 |
| 二、PTFE-like FC 薄膜的研究现状及存在的问题 | 第9-17页 |
| 第一章 ICP 的相关理论和OES 简介 | 第17-23页 |
| ·等离子体的基本概念 | 第17-18页 |
| ·等离子体的定义 | 第17页 |
| ·等离子体的分类 | 第17-18页 |
| ·描述等离子体的基本参量 | 第18页 |
| ·电感耦合等离子体的基本原理 | 第18-20页 |
| ·感应耦合等离子体的基本类型和特点 | 第18-19页 |
| ·感应耦合等离子体的形成机理 | 第19-20页 |
| ·影响感应耦合等离子体的相关因素 | 第20页 |
| ·发射光谱简介 | 第20-22页 |
| ·发射光谱概述 | 第20-21页 |
| ·发射光谱的光谱分析 | 第21-22页 |
| 本章小结 | 第22-23页 |
| 第二章 实验方案及内容 | 第23-34页 |
| ·实验方案 | 第23-24页 |
| ·氟碳薄膜的ICP-CVD 制备 | 第24-28页 |
| ·实验装置简介 | 第24-27页 |
| ·实验过程简述 | 第27-28页 |
| ·薄膜的成分及结构表征 | 第28-30页 |
| ·FTIR | 第28-29页 |
| ·XPS 分析 | 第29-30页 |
| ·薄膜的物理性能测定 | 第30-32页 |
| ·表面形貌的测量 | 第30-31页 |
| ·接触角的测量 | 第31-32页 |
| ·薄膜厚度的测量 | 第32页 |
| ·OES 诊断 | 第32-33页 |
| ·实验装置原理图 | 第32-33页 |
| ·实验用光谱仪简介 | 第33页 |
| 本章小结 | 第33-34页 |
| 第三章 薄膜的表征 | 第34-54页 |
| ·不同沉积条件下薄膜表面结构 | 第34-44页 |
| ·FTIR 结果 | 第44-46页 |
| ·XPS 结果 | 第46-49页 |
| ·接触角测量结果 | 第49-51页 |
| ·薄膜的沉积速率 | 第51-53页 |
| 本章小结 | 第53-54页 |
| 第四章 各种气体ICP 发射光谱研究 | 第54-62页 |
| ·氟碳等离子体发射光谱图常用基团本征谱线的识别 | 第54页 |
| ·CH_2F_2 气体实验结果 | 第54-56页 |
| ·C_2F_6 气体实验结果 | 第56-58页 |
| ·C_3F_8 气体实验结果 | 第58-59页 |
| ·C_4F_8 气体实验结果 | 第59-61页 |
| 本章小结 | 第61-62页 |
| 第五章 氟碳薄膜的沉积机理 | 第62-68页 |
| 本章小结 | 第67-68页 |
| 结论 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-73页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |