工艺参数对铝合金微弧氧化陶瓷层生长特性的影响

摘要	第1-4页
Abstract	第4-8页
1 绪论	第8-17页
·微弧氧化技术简介	第8-9页
·研究历史及发展现状	第8-9页
·影响微弧氧化的因素	第9页
·微弧氧化技术的基本原理	第9-10页
·绝缘陶瓷层的击穿原理及影响因素	第10-14页
·绝缘陶瓷层的击穿原理	第10-13页
·影响绝缘陶瓷层击穿因素	第13-14页
·研究目的及意义	第14页
·研究内容及技术路线	第14-17页
2 实验设备与实验方法	第17-21页
·试样制备	第17-18页
·试样材料	第17页
·试样尺寸	第17页
·试样制备过程	第17-18页
·微弧氧化溶液	第18页
·实验设备	第18-19页
·微弧氧化设备	第18页
·超声波清洗器	第18页
·电热鼓风干燥箱	第18-19页
·测试方法	第19-21页
·质量测定	第19页
·陶瓷层厚度测量	第19页
·陶瓷层绝缘强度测试	第19-20页
·陶瓷层微观结构的观察	第20-21页
3 工艺参数对陶瓷层生长动力学的影响	第21-36页
·电流密度对陶瓷层生长动力学的影响	第21-24页
·陶瓷层厚度随电流密度的变化曲线	第21页
·陶瓷层生长动力学讨论	第21-24页
·频率对陶瓷层生长动力学的影响	第24-27页
·陶瓷层厚度随频率的变化曲线	第24-25页
·陶瓷层生长动力学讨论	第25-27页
·占空比对陶瓷层生长动力学的影响	第27-30页
·陶瓷层厚度随占空比的变化曲线	第27-28页
·陶瓷层生长动力学讨论	第28-30页
·微弧氧化时间对陶瓷层生长动力学的影响	第30-33页
·陶瓷层厚度随微弧氧化时间的变化曲线	第30-31页
·陶瓷层生长动力学讨论	第31-33页
·微弧氧化陶瓷层生长过程分析及讨论	第33-36页
4 工艺参数对陶瓷层致密性的影响	第36-49页
·电流密度对陶瓷层致密性的影响	第36-39页
·频率对陶瓷层致密性的影响	第39-43页
·占空比对陶瓷层致密性的影响	第43-47页
·微弧氧化时间对陶瓷层致密性的影响	第47-49页
5 微弧氧化陶瓷层致密性表征	第49-60页
·不同电流密度条件下制备的陶瓷层致密性表征	第49-52页
·电流密度对陶瓷层击穿电压和击穿场强的影响	第49-51页
·陶瓷层致密性的表征	第51-52页
·不同频率条件下制备的陶瓷层致密性表征	第52-54页
·频率对陶瓷层击穿电压和击穿场强的影响	第52-54页
·陶瓷层致密性的表征	第54页
·不同占空比条件下制备的陶瓷层致密性的表征	第54-57页
·占空比对陶瓷层击穿电压和击穿场强的影响	第54-56页
·陶瓷层致密性的表征	第56-57页
·不同微弧氧化时间条件下制备的陶瓷层致密性表征	第57-60页
·微弧氧化时间对陶瓷层击穿电压和击穿场强的影响	第57-58页
·不同微弧氧化时间陶瓷层致密性的表征	第58-60页
6 结论	第60-61页
致谢	第61-62页
参考文献	第62-67页
攻读硕士学位期间发表的论文	第67页