磁场非平衡度对磁控溅射Cr镀层沉积过程的影响
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 1 绪论 | 第8-20页 |
| ·引言 | 第8页 |
| ·物理气相沉积技术 | 第8-12页 |
| ·物理气相沉积技术原理简介 | 第8-9页 |
| ·物理气相沉积技术的主要方法 | 第9页 |
| ·物理气相沉积技术的特点及应用 | 第9-10页 |
| ·物理气相沉积技术的新进展 | 第10-12页 |
| ·磁控溅射技术的发展和应用 | 第12-18页 |
| ·溅射技术的发展 | 第12-14页 |
| ·磁控溅射技术的基本原理 | 第14-16页 |
| ·磁控溅射离子镀 | 第16页 |
| ·非平衡磁控溅射离子镀 | 第16-18页 |
| ·课题的研究目的、意义及内容 | 第18-20页 |
| ·课题目的和意义 | 第18页 |
| ·课题的研究内容 | 第18-19页 |
| ·技术路线 | 第19-20页 |
| 2 实验设备和实验方法 | 第20-27页 |
| ·实验材料及试样前处理 | 第20页 |
| ·试样基材材料 | 第20页 |
| ·试样前处理 | 第20页 |
| ·镀膜设备 | 第20-21页 |
| ·磁控管的磁场组态 | 第21页 |
| ·镀膜过程 | 第21-23页 |
| ·镀膜中基材试样的放置 | 第21-23页 |
| ·镀膜工艺 | 第23页 |
| ·靶表面磁场分布的检测 | 第23页 |
| ·镀层性能和组织结构的检测 | 第23-27页 |
| 3 磁场非平衡度及其对镀层性能的影响 | 第27-43页 |
| ·磁控溅射系统中的磁场非平衡度 | 第27-31页 |
| ·磁场非平衡度对靶电压的影响 | 第31-32页 |
| ·磁场非平衡度对镀层厚度的影响 | 第32-39页 |
| ·第一次实验磁场非平衡度对镀层厚度的影响 | 第32-34页 |
| ·第二次实验磁场非平衡度对镀层厚度的影响 | 第34-38页 |
| ·磁场非平衡度对镀层厚度均匀性的影响 | 第38-39页 |
| ·磁场非平衡度对镀层硬度的影响 | 第39-41页 |
| ·磁场非平衡度对镀层电阻率的影响 | 第41-42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 4 磁场非平衡度对镀层组织结构的影响 | 第43-52页 |
| ·镀层的X射线衍射分析(XRD) | 第43-45页 |
| ·磁场非平衡度对镀层晶粒度的影响 | 第45-46页 |
| ·磁场非平衡度对镀层表面形貌的影响 | 第46-49页 |
| ·表面扫描电子显微镜分析(SEM) | 第46-47页 |
| ·原子力显微镜分析(AFM) | 第47-49页 |
| ·磁场非平衡度对镀层截面形貌的影响 | 第49-50页 |
| ·本章小结 | 第50-52页 |
| 5 磁场非平衡度对磁控溅射沉积过程影响的机理分析 | 第52-59页 |
| ·低温等离子体物理概述 | 第52-53页 |
| ·磁控溅射系统中的气体放电 | 第53-54页 |
| ·带电粒子在电磁场中的运动 | 第54-56页 |
| ·实验中磁场非平衡度对镀层的影响机理 | 第56-59页 |
| 6 结论 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-65页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第65页 |
