| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-14页 |
| ·课题背景和意义 | 第9页 |
| ·国内外ITO 导电薄膜研究状况 | 第9-12页 |
| ·国外 ITO 导电薄膜的研究 | 第9-11页 |
| ·国内 ITO 导电薄膜的研究 | 第11-12页 |
| ·课题来源和研究的技术关键及内容 | 第12-14页 |
| ·课题来源 | 第12页 |
| ·研究的主要内容 | 第12-14页 |
| 第2章 ITO 透明导电薄膜的理论基础及制备方法 | 第14-30页 |
| ·ITO 透明导电薄膜结构和性能 | 第14-23页 |
| ·ITO 导电薄膜的半导体特性 | 第14-15页 |
| ·ITO 导电薄膜的组织结构和能带 | 第15-17页 |
| ·ITO 导电薄膜的光学性能 | 第17-20页 |
| ·ITO 导电薄膜的电学性能 | 第20-23页 |
| ·ITO 透明导电薄膜的应用 | 第23-27页 |
| ·ITO 在薄膜太阳能电池上的应用 | 第23-25页 |
| ·ITO 薄膜在热辐射反射镜、防护镜及微波屏蔽的应用 | 第25页 |
| ·ITO 薄膜在气敏元件上的应用 | 第25-26页 |
| ·ITO 薄膜在平板显示器及 OLED 中的应用 | 第26-27页 |
| ·ITO 透明导电薄膜的制备方法 | 第27-29页 |
| ·本章小结 | 第29-30页 |
| 第3章 磁控溅射法制备 ITO 薄膜 | 第30-37页 |
| ·磁控溅射对ITO 薄膜附着力的影响 | 第30-33页 |
| ·薄膜与衬底的附着机理 | 第30页 |
| ·影响 ITO 薄膜附着力的主要因素 | 第30-33页 |
| ·磁控镀膜装置及原理 | 第33-35页 |
| ·磁控镀膜工艺操作流程 | 第35-36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 第4章 ITO 薄膜的测试及实验结果分析 | 第37-49页 |
| ·ITO 透明导电薄膜的测试 | 第37-42页 |
| ·ITO 薄膜厚度的测定 | 第37-38页 |
| ·ITO 透明导电薄膜光性能及电性能的测定 | 第38-41页 |
| ·ITO 透明导电薄膜的结构和表面形貌分析 | 第41-42页 |
| ·ITO 透明导电薄膜测试结果和分析 | 第42-48页 |
| ·热处理对表面形貌影响 | 第42-44页 |
| ·热处理对薄膜结晶程度的影响 | 第44-45页 |
| ·热处理对 ITO 薄膜可见光透射率的影响 | 第45-46页 |
| ·溅射功率对薄膜导电性能的影响 | 第46-47页 |
| ·ITO 薄膜的光激发特性 | 第47-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 结论 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-54页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第54-55页 |
| 致谢 | 第55页 |