| 摘要 | 第2-3页 |
| Summary | 第3-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-22页 |
| 1.1 研究背景 | 第8-9页 |
| 1.2 氮氧化物的产生及危害 | 第9-11页 |
| 1.2.1 氮氧化物的产生 | 第9-10页 |
| 1.2.2 氮氧化物的危害 | 第10-11页 |
| 1.3 烟气脱硝技术 | 第11-12页 |
| 1.4 SCR脱硝技术 | 第12-15页 |
| 1.4.1 贵金属催化剂 | 第13页 |
| 1.4.2 碳基催化剂 | 第13页 |
| 1.4.3 金属氧化物催化剂 | 第13-15页 |
| 1.5 V基SCR脱硝催化剂 | 第15-20页 |
| 1.5.1 基于Eley-Rideal反应机理 | 第18-19页 |
| 1.5.2 基于Langmuir-Hinshelwood酸位反应机理 | 第19-20页 |
| 1.6 本文研究意义和主要研究内容 | 第20-22页 |
| 1.6.1 研究意义 | 第20-21页 |
| 1.6.2 研究内容 | 第21-22页 |
| 第二章 实验部分 | 第22-28页 |
| 2.1 实验平台 | 第22-23页 |
| 2.2 催化剂制备及碱性金属担载 | 第23-25页 |
| 2.2.1 化学试剂及设备 | 第23-24页 |
| 2.2.2 V-W/Ti催化剂制备 | 第24-25页 |
| 2.2.3 催化剂担载碱性金属 | 第25页 |
| 2.2.4 低V催化剂制备 | 第25页 |
| 2.3 催化剂表征 | 第25-28页 |
| 2.3.1 X射线衍射分析(XRD) | 第25页 |
| 2.3.2 比表面积分析(BET) | 第25-26页 |
| 2.3.3 NH_3程序升温脱附分析(NH_3-TPD) | 第26页 |
| 2.3.4 X射线光电子能谱分析(XPS) | 第26页 |
| 2.3.5 H_2程序升温还原分析(H_2-TPR) | 第26页 |
| 2.3.6 漫反射原位红外分析(DRIFTS) | 第26页 |
| 2.3.7 量子化学密度泛函理论分析(DFT) | 第26-28页 |
| 第三章 V-W/Ti催化剂耐硫耐水及抗不同碱性金属研究 | 第28-44页 |
| 3.1 引言 | 第28页 |
| 3.2 V-W/Ti催化剂活性测试 | 第28-30页 |
| 3.2.1 氧浓度对V-W/Ti催化剂活性影响 | 第28-29页 |
| 3.2.2 空速对V-W/Ti催化剂活性影响 | 第29页 |
| 3.2.3 V_2O_5和WO_3含量对V-W/Ti催化剂活性影响 | 第29-30页 |
| 3.3 V-W/Ti催化剂耐水耐硫性能 | 第30-31页 |
| 3.3.1 V_2O_5和WO_3含量对V-W/Ti催化剂耐硫耐水影响 | 第30-31页 |
| 3.3.2 温度和水含量对V-W/Ti催化剂耐水耐硫性影响 | 第31页 |
| 3.4 碱性金属氧化物对V-W/Ti催化剂影响 | 第31-34页 |
| 3.4.1 Na、K、Ca、Al金属氧化物对V-W/Ti催化剂活性影响 | 第31-32页 |
| 3.4.2 Al_2O_3含量对V-W/Ti催化剂活性影响 | 第32-33页 |
| 3.4.3 不同中毒方式对V-W/Ti催化剂影响对比 | 第33-34页 |
| 3.4.4 担载碱金属V-W/Ti催化剂的耐水耐硫性能测试 | 第34页 |
| 3.5 催化剂表征 | 第34-43页 |
| 3.5.1 XRD和BET分析 | 第34-35页 |
| 3.5.2 NH_3-TPD和H_2-TPR分析 | 第35-36页 |
| 3.5.3 XPS和NH_3-DRIFTS分析 | 第36-39页 |
| 3.5.4 DFT分析 | 第39-43页 |
| 3.6 小结 | 第43-44页 |
| 第四章 低V基催化剂改性研究 | 第44-53页 |
| 4.1 引言 | 第44页 |
| 4.2 Ce添加V-W/Ti催化剂性能测试 | 第44-49页 |
| 4.2.2 Ce不同添加顺序对催化剂活性影响 | 第45-46页 |
| 4.2.3 Ce不同添加顺序对催化剂耐水耐硫影响 | 第46-47页 |
| 4.2.4 低V含量催化剂改性 | 第47-49页 |
| 4.3 催化剂表征 | 第49-52页 |
| 4.3.1 NH_3程序升温脱附(NH_3-TPD)分析 | 第50页 |
| 4.3.2 X射线光电子能谱(XPS)分析 | 第50-51页 |
| 4.3.3 H_2程序升温还原(H_2-TPR)分析 | 第51-52页 |
| 4.4 小结 | 第52-53页 |
| 第五章 结论与展望 | 第53-56页 |
| 5.1 文章结论 | 第53-55页 |
| 5.2 展望 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-67页 |
| 攻读硕期间主要科研成果 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
