首页--工业技术论文--无线电电子学、电信技术论文--半导体技术论文--场效应器件论文

沟槽型功率MOSFET设计与栅电荷研究

摘要第1-7页
Abstract第7-11页
第1章 绪论第11-17页
   ·研究背景与意义第11页
   ·国内外研究现状第11-15页
     ·降低MOSFET的FOM(优值)第12-13页
     ·提高MOSFET的雪崩能量第13-15页
     ·其他相关研究内容第15页
   ·本文的主要工作第15-17页
第2章 功率MOSFET相关基础第17-24页
   ·功率MOSFET的基本结构第17-18页
   ·功率MOSFET的主要基本参数第18-20页
   ·功率MOSFET的AC参数第20-23页
     ·寄生电容第20页
     ·开关特性第20-21页
     ·栅电荷第21-23页
   ·本章小结第23-24页
第3章 沟槽型功率MOSFET的设计与仿真第24-44页
   ·沟槽型功率MOSFET的工艺流程及仿真软件第24-27页
   ·工艺参数对MOSFET性能的影响第27-40页
     ·epi第30-31页
     ·CP和T_(width)第31-32页
     ·P-dose第32-34页
     ·T_(depth)第34-35页
     ·GOX第35-37页
     ·沟槽型MOSFET的设计流程第37-40页
   ·版图结构对MOSFET电性能参数的影响第40-42页
     ·沟道密度对比第40-41页
     ·C_(gd)电容值对比第41页
     ·C_(gs)电容值对比第41-42页
     ·C_(ds)电容值对比第42页
   ·整芯片电容值的计算第42-43页
   ·本章小结第43-44页
第4章 栅电荷的测试与建模第44-57页
   ·栅电荷测试电路第44-48页
     ·现有栅电荷测试电路及存在的问题第44-45页
     ·新型的栅电荷测试电路第45-46页
     ·测试结果对比第46-48页
   ·高压功率MOSFET栅电荷的建模分析第48-52页
     ·电容的非线性模型第49-50页
     ·t_0-t_1阶段第50-51页
     ·t_1-t_2阶段第51-52页
     ·t_2-t_3阶段第52页
   ·栅电荷模型的验证第52-56页
     ·MPU01N65验证结果第53-54页
     ·MPC830验证结果第54-56页
   ·本章小结第56-57页
结论与未来的工作第57-58页
参考文献第58-61页
致谢第61-62页
攻读硕士学位期间发表的论文情况第62页

论文共62页,点击 下载论文
上一篇:0.14THZ倍频技术研究
下一篇:超短脉冲在掺杂光纤放大器中传输特性的研究