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光敏材料中若干弱光非线性光学效应研究

摘要第1-6页
Abstract第6-11页
第一章 光敏有机材料与弱光非线性光学效应第11-21页
 第一节 弱光非线性光学及其材料第11-14页
  §1.1.1 弱光非线性光学特性第11-13页
  §1.1.2 弱光非线性光学材料第13-14页
 第二节 光敏化聚合物材料及其弱光非线性应用第14-16页
  §1.2.1 光敏化聚合物材料的特性第14-15页
  §1.2.2 光致聚合物的弱光非线性应用第15-16页
 第三节 紫外敏感有机玻璃及重铬酸盐明胶的发展和应用第16-20页
  §1.3.1 紫外光敏有机玻璃简介第16-18页
  §1.3.2 重铬酸盐明胶简介第18-20页
 第四节 本论文研究内容和思路第20-21页
第二章 DMPA-PMMA制备与光敏性质研究第21-46页
 第一节 原材料的物理及化学性质第21-24页
  §2.1.1 甲基丙烯酸甲酯的物理和化学性质第21-23页
  §2.1.2 偶氮二异丁腈的性质第23-24页
  §2.1.3 安息香双甲醚的性质第24页
 第二节 DMPA-PMMA制备原理及过程第24-32页
  §2.2.1 聚合反应原理第24-27页
  §2.2.2 原料的选择和提纯第27-28页
  §2.2.3 配液与热聚合第28-29页
  §2.2.4 样品的后加工第29-30页
  §2.2.5 DMPA-PMMA折射率的测量第30-31页
  §2.2.6 DMPA-PMMA分子量的测量第31-32页
 第三节 DMPA-PMMA吸收特性的研究第32-39页
  §2.3.1 吸收系数的测量方法第32-33页
  §2.3.2 DMPA-PMMA吸收系数的静态测量第33-36页
  §2.3.3 DMPA-PMMA吸收系数的动态测量第36-39页
  §2.3.4 DMPA-PMMA的光致散射第39页
 第四节 DMPA-PMMA紫外光敏反应机理第39-41页
  §2.4.1 光致聚合反应概述第40页
  §2.4.2 DMPA-PMMA中光致聚合反应过程第40-41页
 第五节 DMPA-PMMA光致聚合反应模型第41-44页
  §2.5.1 光致聚合反应模型的建立第41-42页
  §2.5.2 反应模型正确性的数值分析第42-44页
 第六节 本章小结第44-46页
第三章 DMPA-PMMA中弱光耦合效应的研究第46-61页
 第一节 非线性双光耦合效应第46-53页
  §3.1.1 衍射效率以及相位栅的测量第47-52页
  §3.1.2 双光耦合过程的测量第52-53页
 第二节 DMPA-PMMA中光栅相移的研究第53-60页
  §3.2.1 光栅相移的理论分析第53-55页
  §3.2.2 光栅相移的测量结果第55-59页
  §3.2.3 光栅相移的分析第59-60页
 第三节 本章小结第60-61页
第四章 光学周期微结构中自发辐射调制研究第61-91页
 第一节 能带结构及态密度的理论计算与自发辐射调制第61-75页
  §4.1.1 带隙结构的简介第61-64页
  §4.1.2 态密度理论简介第64-68页
  §4.1.3 光学周期结构-光子晶体的发展和困难第68-69页
  §4.1.4 光学周期结构对自发辐射的影响第69-71页
  §4.1.5 光学周期结构带隙计算方法第71-75页
 第二节 光学微结构的制备第75-81页
  §4.2.1 周期结构的全息制备第75-76页
  §4.2.2 单光束刻蚀记录第76-81页
 第三节 自发辐射样品制备及性质第81-83页
  §4.3.1 诺丹明6G简介第81-82页
  §4.3.2 重铬酸盐明胶样品的制备第82-83页
 第四节 一维周期结构的透射光谱及荧光发射测量及分析第83-89页
  §4.4.1 重铬酸盐明胶薄膜透射光谱测量第83-85页
  §4.4.2 重铬酸盐明胶薄膜荧光光谱测量第85-87页
  §4.4.3 荧光光谱调制的理论分析第87-89页
 第五节 重铬酸盐明胶膜与DMPA-PMMA介质的比较第89-90页
 第六节 本章小结第90-91页
第五章 总结与展望第91-95页
 第一节 总结第91-92页
 第二节 研究展望第92-95页
参考文献第95-106页
致谢第106-107页
个人简历第107-108页
发表文章第108页
参加会议第108页
参与项日第108页

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