| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 引言 | 第10-12页 |
| 1 文献综述 | 第12-34页 |
| ·AAO膜结构、分类和阳极氧化规律 | 第12-15页 |
| ·氧化膜的分类 | 第12-13页 |
| ·阳极氧化规律 | 第13-15页 |
| ·AAO膜反应与形成机理 | 第15-17页 |
| ·孔成核机理 | 第15页 |
| ·多孔结构形成机理 | 第15-17页 |
| ·AAO膜形成的影响因素 | 第17-20页 |
| ·AAO膜的生长动力学 | 第20-22页 |
| ·电抛光机理及研究现状 | 第22-25页 |
| ·电抛光概述 | 第22-23页 |
| ·电抛光模型 | 第23-25页 |
| ·铝表面电抛光自组织条纹的生成 | 第25-27页 |
| ·AAO膜的制备及表征 | 第27-32页 |
| ·AAO膜的制备 | 第27-28页 |
| ·电化学交流阻抗 | 第28-32页 |
| ·电子显微镜技术 | 第32页 |
| ·论文的工作思路和内容 | 第32-34页 |
| 2 高纯铝表面电抛光工艺的优化 | 第34-54页 |
| ·前言 | 第34-35页 |
| ·实验方法 | 第35-36页 |
| ·实验材料与准备 | 第35-36页 |
| ·电化学抛光实验 | 第36页 |
| ·电化学实验 | 第36页 |
| ·抛光表面结构和成分表征 | 第36页 |
| ·结果与讨论 | 第36-52页 |
| ·电解液浓度的影响 | 第36-41页 |
| ·电解液温度的影响 | 第41-43页 |
| ·交流阻抗测试结果分析 | 第43-46页 |
| ·高纯铝在高氯酸和无水乙醇电解液中的电抛光机理分析 | 第46-47页 |
| ·超声波搅拌对高纯铝电抛光效果的影响 | 第47-52页 |
| ·本章小结 | 第52-54页 |
| 3 草酸中多孔阳极氧化铝膜的生长动力学研究 | 第54-68页 |
| ·前言 | 第54页 |
| ·实验方法 | 第54-57页 |
| ·实验材料与准备 | 第54页 |
| ·阳极氧化实验 | 第54-55页 |
| ·电化学实验 | 第55页 |
| ·AAO膜质量测定 | 第55-56页 |
| ·AAO膜电流效率测定 | 第56-57页 |
| ·膜结构表征 | 第57页 |
| ·结果与讨论 | 第57-67页 |
| ·电压-时间曲线 | 第57-58页 |
| ·AAO膜厚和膜生长速率 | 第58-63页 |
| ·AAO膜质量和电流效率 | 第63-67页 |
| ·本章小结 | 第67-68页 |
| 4 低温氧化法制备AAO膜 | 第68-86页 |
| ·前言 | 第68-69页 |
| ·实验方法 | 第69-71页 |
| ·实验材料和准备 | 第69页 |
| ·阳极氧化实验 | 第69页 |
| ·填孔(pore-filling)实验 | 第69-70页 |
| ·显微图像分析膜表面结构 | 第70-71页 |
| ·实验结果 | 第71-83页 |
| ·AAO膜结构和成分表征 | 第71-79页 |
| ·电位-时间曲线 | 第79-81页 |
| ·Pore-filling法测定AAO膜孔隙率 | 第81-83页 |
| ·讨论 | 第83-85页 |
| ·氧化过程的双电层和表面电荷分析 | 第83-84页 |
| ·低温氧化过程分析 | 第84-85页 |
| ·本章小结 | 第85-86页 |
| 5 低温氧化AAO膜的交流阻抗表征 | 第86-102页 |
| ·前言 | 第86-87页 |
| ·实验方法 | 第87页 |
| ·实验材料和准备 | 第87页 |
| ·实验流程 | 第87页 |
| ·测试方法 | 第87页 |
| ·AAO膜的EIS模型 | 第87-90页 |
| ·实验结果 | 第90-101页 |
| ·填孔实验前后EIS图谱比较 | 第90-93页 |
| ·选取等效电路 | 第93-96页 |
| ·EIS测定AAO膜厚 | 第96-101页 |
| ·讨论 | 第101页 |
| ·本章小结 | 第101-102页 |
| 结论 | 第102-104页 |
| 创新点汇总 | 第104-105页 |
| 参考文献 | 第105-117页 |
| 攻读博士学位期间发表学术论文情况 | 第117-118页 |
| 致谢 | 第118-119页 |
| 作者简介 | 第119-121页 |