| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-22页 |
| 1.1 PVD技术在薄膜制备中的应用及发展 | 第10-13页 |
| 1.2 多组元氮化物硬质膜的发展与展望 | 第13-16页 |
| 1.3 (ZrTiAl)N硬质反应膜的制备基础 | 第16-19页 |
| 1.3.1 Ti-Al-N | 第16-17页 |
| 1.3.2 Ti-Zr-N | 第17页 |
| 1.3.3 Zr-Al-N | 第17-19页 |
| 1.3.4 与MeAlN硬质膜的对比 | 第19页 |
| 1.4 本课题的研究方向 | 第19-21页 |
| 1.5 本课题的执行方案 | 第21-22页 |
| 第2章 试验材料及研究方法 | 第22-29页 |
| 2.1 镀膜设备 | 第22-23页 |
| 2.2 试验材料 | 第23-24页 |
| 2.2.1 基体材料 | 第23-24页 |
| 2.2.2 基体材料的前处理 | 第24页 |
| 2.3 (ZrTiAl)N膜层的成分设计与膜层制备 | 第24-25页 |
| 2.3.1 成分设计 | 第24页 |
| 2.3.2 膜层制备 | 第24-25页 |
| 2.4 (ZrTiAl)N膜层的检测分析方法 | 第25-29页 |
| 2.4.1 扫描电子显微镜(SEM)分析 | 第25-26页 |
| 2.4.2 X射线衍射分析(XRD) | 第26-27页 |
| 2.4.3 薄膜的显微硬度测试 | 第27页 |
| 2.4.4 薄膜的断面测试 | 第27-28页 |
| 2.4.5 薄膜的划痕(结合力)测试 | 第28-29页 |
| 第3章 (ZrTiAl)N膜层的组织与成分 | 第29-42页 |
| 3.1 (ZrTiAl)N膜层的成分分析 | 第29-35页 |
| 3.1.1 表面成分 | 第29-33页 |
| 3.1.2 断面成分 | 第33-35页 |
| 3.2 (ZrTiAl)N膜层的表面形貌 | 第35-38页 |
| 3.3 (ZrTiAl)N膜层的断面形貌 | 第38-41页 |
| 3.4 本章小结 | 第41-42页 |
| 第4章 (ZrTiAl)N膜层的相结构 | 第42-54页 |
| 4.1 (ZrTiAl)N膜层的相组成与择优生长取向 | 第42-46页 |
| 4.2 成分配比对(ZrTiAl)N膜层相结构的影响 | 第46-49页 |
| 4.3 (ZrTiAl)N膜层的晶格常数 | 第49-53页 |
| 4.4 本章小结 | 第53-54页 |
| 第5章 (ZrTiAl)N膜层的力学性能分析 | 第54-62页 |
| 5.1 膜层的硬度 | 第54-59页 |
| 5.2 膜层的结合力 | 第59-60页 |
| 5.3 本章小结 | 第60-62页 |
| 第6章 结论 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-68页 |
| 在学期间研究成果 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
