| 摘要 | 第3-5页 |
| abstract | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-30页 |
| 1.1 铝合金表面氧化处理研究现状 | 第11-16页 |
| 1.1.1 铝合金表面化学氧化处理 | 第11-12页 |
| 1.1.2 阳极氧化处理 | 第12-16页 |
| 1.2 微弧氧化表面处理技术 | 第16-19页 |
| 1.2.1 微弧氧化工艺基本原理 | 第16-17页 |
| 1.2.2 陶瓷氧化膜的形成 | 第17-18页 |
| 1.2.3 铝合金陶瓷氧化膜的成分及性能 | 第18-19页 |
| 1.3 微弧氧化技术的特点及应用领域 | 第19-21页 |
| 1.3.1 微弧氧化技术特点 | 第19-20页 |
| 1.3.2 微弧氧化工艺的应用领域 | 第20-21页 |
| 1.4 微弧氧化机理研究 | 第21-25页 |
| 1.4.1 氧化膜击穿机理 | 第21-24页 |
| 1.4.2 微弧氧化陶瓷膜的形成过程 | 第24-25页 |
| 1.5 国内外微弧氧化技术的发展及研究现状 | 第25-29页 |
| 1.5.1 微弧氧化技术的发展沿革 | 第25-26页 |
| 1.5.2 国内外微弧氧化技术研究现状 | 第26-27页 |
| 1.5.3 目前存在的问题 | 第27-29页 |
| 1.6 本文研究目标及主要研究内容 | 第29-30页 |
| 第二章 铝合金交流电微弧氧化试验方案设计 | 第30-39页 |
| 2.1 微弧氧化过程电化学过程分析 | 第30-31页 |
| 2.2 微弧氧化过程等效电路分析 | 第31-33页 |
| 2.3 微弧氧化设备设计 | 第33-35页 |
| 2.4 铝合金基材及试样制备 | 第35-36页 |
| 2.5 微弧氧化电解液成分的选择 | 第36-37页 |
| 2.6 陶瓷氧化膜生长机理试验方案设计 | 第37-38页 |
| 2.7 试验技术路线 | 第38-39页 |
| 第三章 陶瓷氧化膜生长机理试验及分析 | 第39-62页 |
| 3.1 微弧氧化电参数变化规律试验 | 第39-44页 |
| 3.1.1 试验现象 | 第39页 |
| 3.1.2 试验数据整理与电参数变化规律分析 | 第39-41页 |
| 3.1.3 微弧氧化等效电路分析 | 第41-43页 |
| 3.1.4 氧化膜击穿现象分析 | 第43页 |
| 3.1.5 试样电极表面电容性变化分析 | 第43-44页 |
| 3.2 初始氧化膜击穿性质试验 | 第44-49页 |
| 3.2.1 试验数据整理与分析 | 第44-47页 |
| 3.2.2 初始氧化膜的击穿过程分析 | 第47-48页 |
| 3.2.3 膜间电压随电解液浓度增大而下降的原因分析 | 第48-49页 |
| 3.2.4 初始氧化膜电击穿临界场强计算 | 第49页 |
| 3.3 不同体系电解液微弧氧化试验 | 第49-52页 |
| 3.3.1 试验数据分析 | 第49-51页 |
| 3.3.2 电解液体系对电参数变化规律的影响 | 第51-52页 |
| 3.3.3 初始氧化膜临界场强计算 | 第52页 |
| 3.4 陶瓷氧化膜生长过程试验 | 第52-61页 |
| 3.4.1 陶瓷氧化膜生长速度分析 | 第53-54页 |
| 3.4.2 各时段试验生成的氧化膜电镜扫描图片分析 | 第54-58页 |
| 3.4.3 各时段试验所生成氧化膜XRD图谱 | 第58-59页 |
| 3.4.4 陶瓷氧化膜生长过程讨论 | 第59-61页 |
| 3.5 本章小结 | 第61-62页 |
| 第四章 陶瓷氧化膜的生长机理研究 | 第62-83页 |
| 4.1 试样电极表面的反应分析 | 第62-63页 |
| 4.2 初始氧化膜的电击穿过程分析 | 第63-65页 |
| 4.3 颗粒结构陶瓷氧化膜的形成 | 第65-67页 |
| 4.3.1 陶瓷氧化物颗粒的产生 | 第65-66页 |
| 4.3.2 初始氧化膜表面的电量动平衡 | 第66-67页 |
| 4.3.3 颗粒结构陶瓷氧化膜的生长过程 | 第67页 |
| 4.3.4 颗粒结构陶瓷膜层上气体的析出 | 第67页 |
| 4.4 颗粒结构陶瓷氧化膜的电击穿分析 | 第67-72页 |
| 4.4.1 气膜的形成 | 第67-68页 |
| 4.4.2 气体介质的电击穿机理 | 第68-69页 |
| 4.4.3 气膜的击穿放电 | 第69-70页 |
| 4.4.4 气膜的击穿机理分析 | 第70-71页 |
| 4.4.5 气膜击穿放电过程 | 第71页 |
| 4.4.6 试样电极表面电容性消失 | 第71-72页 |
| 4.5 陶瓷氧化膜的生长和成膜过程分析 | 第72-77页 |
| 4.5.1 气膜放电过程中的电化学反应分析 | 第72-74页 |
| 4.5.2 陶瓷氧化膜的生长过程分析 | 第74-75页 |
| 4.5.3 陶瓷氧化膜的生长方向分析 | 第75-76页 |
| 4.5.4 陶瓷氧化膜生长均匀性分析 | 第76-77页 |
| 4.6 微弧放电现象的间歇性和终止条件 | 第77-78页 |
| 4.7 陶瓷氧化膜生长过程机理探讨 | 第78-81页 |
| 4.7.1 陶瓷氧化膜生长过程机理模型及讨论 | 第78-80页 |
| 4.7.2 陶瓷氧化膜生长过程各阶段电参数变化 | 第80-81页 |
| 4.8 本章小结 | 第81-83页 |
| 第五章 微弧氧化陶瓷膜制备工艺研究 | 第83-114页 |
| 5.1 陶瓷氧化膜制备工艺参数分析 | 第83-86页 |
| 5.1.1 交流电微弧氧化电参数分析 | 第83页 |
| 5.1.2 陶瓷氧化膜生长第一阶段工艺参数分析 | 第83-84页 |
| 5.1.3 陶瓷氧化膜生长第二、三阶段工艺参数分析 | 第84-86页 |
| 5.2 试样电极表面电流密度工艺参数试验 | 第86-92页 |
| 5.3 电解液浓度参数试验 | 第92-97页 |
| 5.4 陶瓷氧化膜制备电参数设计及验证试验 | 第97-99页 |
| 5.5 双铝合金试样对称电极微弧氧化试验 | 第99-102页 |
| 5.6 对膜间电压值工艺参数的分析讨论 | 第102-105页 |
| 5.7 电流密度参数对陶瓷氧化膜成膜质量影响的分析 | 第105-107页 |
| 5.8 陶瓷氧化膜制备电参数模型 | 第107-108页 |
| 5.9 微弧氧化电流调整装置的设计及应用 | 第108-112页 |
| 5.9.1 微弧氧化电流调整装置的设计基本原理 | 第109-111页 |
| 5.9.2 采用电流调节装置进行微弧氧化试验 | 第111-112页 |
| 5.10 本章小结 | 第112-114页 |
| 第六章 总结 | 第114-117页 |
| 6.1 总结 | 第114-115页 |
| 6.2 创新点 | 第115-116页 |
| 6.3 展望 | 第116-117页 |
| 致谢 | 第117-118页 |
| 参考文献 | 第118-127页 |
| 攻读学位期间发表的论文及发明专利 | 第127页 |
