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铜纳米线及铂包铜纳米线的制备与应用研究

摘要第5-7页
Abstract第7-8页
第1章 绪论第11-25页
    1.1 金属纳米线概述第11-12页
        1.1.1 金属纳米线性能优势第11页
        1.1.2 金属纳米线的应用第11-12页
    1.2 铜纳米线研究进展第12-19页
        1.2.1 铜纳米线的合成方法第12-15页
        1.2.2 铜纳米线透明导电薄膜应用第15-19页
    1.3 铂铜纳米线的研究进展第19-21页
        1.3.1 铂铜合金纳米线研究进展第19-20页
        1.3.2 铂包铜(Pt/Cu)纳米线研究进展第20-21页
    1.4 本文研究的意义及内容第21-25页
        1.4.1 研究背景第21-23页
        1.4.2 研究意义第23-24页
        1.4.3 研究内容第24-25页
第2章 铜纳米线的合成第25-34页
    2.1 引言第25页
    2.2 实验材料及方法第25-27页
        2.2.1 实验试剂及仪器第25-26页
        2.2.2 铜纳米线的制备方法第26页
        2.2.3 铜纳米线形貌及结构的表征第26-27页
    2.3 不同反应条件对铜纳米线形貌的影响第27-32页
        2.3.1 不同金属前驱体及还原剂的影响第27-28页
        2.3.2 不同种类表面活性剂的影响第28-29页
        2.3.3 不同摩尔比的十六胺与十八胺对铜纳米线形成的影响第29-30页
        2.3.4 不同反应时间对铜纳米线形貌的影响第30-32页
    2.4 铜纳米线的紫外-可见光谱表征第32-33页
    2.5 本章小结第33-34页
第3章 铜纳米线结构分析及性能测试第34-43页
    3.1 引言第34页
    3.2 实验材料及方法第34-36页
        3.2.1 实验试剂及仪器第34-35页
        3.2.2 实验方法第35页
        3.2.3 纳米线的结构及性能表征第35-36页
    3.3 铜纳米线结构分析及形成机理探究第36-39页
        3.3.1 纳米线的结构分析第36-38页
        3.3.2 纳米线形成机理研究第38-39页
    3.4 铜纳米线透明导电薄膜性能测试第39-41页
        3.4.1 不同摩尔比HDA:ODA的产物导电薄膜第39-40页
        3.4.2 不同摩尔浓度铜纳米线导电薄膜第40-41页
    3.5 本章小结第41-43页
第4章 Pt/Cu纳米线的合成及电催化性能第43-54页
    4.1 引言第43页
    4.2 实验材料及方法第43-45页
        4.2.1 实验试剂及仪器第43-44页
        4.2.2 Pt/Cu纳米线的合成方法第44页
        4.2.3 Pt/Cu纳米线的电催化性能测试第44-45页
    4.3 Pt/Cu纳米线的形貌、结构及成分分析第45-48页
        4.3.1 Pt/Cu纳米线的形貌表征第45-47页
        4.3.2 不同成分的Pt/Cu纳米线的结构分析第47-48页
    4.4 Pt/Cu纳米线的电化学性能测试第48-52页
        4.4.1 Pt/Cu纳米线在高氯酸中的电化学催化第48-50页
        4.4.2 Pt/Cu纳米线在甲醇中的电化学催化第50-52页
    4.5 本章小结第52-54页
结论第54-55页
参考文献第55-67页
附录 攻读硕士期间所完成的学术论文目录第67-68页
致谢第68页

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