| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第8-19页 |
| 1.1 引言 | 第8页 |
| 1.2 等离激元发展历程概述 | 第8-9页 |
| 1.3 等离激元激发方式及其应用领域 | 第9-15页 |
| 1.4 等离激元近场分布影响因素概述 | 第15-17页 |
| 1.5 研究内容以及研究目的和意义 | 第17-18页 |
| 1.6 论文主要内容及安排 | 第18-19页 |
| 第二章 表面等离激元的基础理论及模拟方法 | 第19-28页 |
| 2.1 引言 | 第19页 |
| 2.2 等离激元基本性质 | 第19-22页 |
| 2.3 等离激元近场的控制机制及其描述 | 第22-24页 |
| 2.4 时域有限差分模拟方法及其原理 | 第24-27页 |
| 2.5 本章小结 | 第27-28页 |
| 第三章 等离激元近场分布控制因素的研究 | 第28-43页 |
| 3.1 引言 | 第28页 |
| 3.2 纳米结构设计与模拟设置 | 第28-29页 |
| 3.3 纳米结构形状对等离激元近场分布的影响 | 第29-30页 |
| 3.4 光源参数对等离激元近场分布的影响 | 第30-36页 |
| 3.5 周围介电环境对等离激元近场分布的影响 | 第36-37页 |
| 3.6 结构缺欠对等离激元近场分布的影响 | 第37-42页 |
| 3.7 本章小结 | 第42-43页 |
| 第四章 纳米结构近场分布控制过程的高空间分辨成像研究 | 第43-52页 |
| 4.1 引言 | 第43页 |
| 4.2 光辐射电子显微镜描述与近场成像实验装置 | 第43-46页 |
| 4.3 等离激元近场分布控制的高空间分辨率成像研究 | 第46-49页 |
| 4.4 缺欠激发对等离激元近场分布干扰的实验研究 | 第49-51页 |
| 4.5 本章小结 | 第51-52页 |
| 总结 | 第52-53页 |
| 致谢 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-58页 |
| 攻读硕士期间学术成果 | 第58页 |