中文摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-8页 |
1 文献综述 | 第12-30页 |
1.1 半导体光催化材料概述 | 第12-15页 |
1.1.1 半导体光催化材料的发展背景 | 第12-13页 |
1.1.2 半导体光催化的基本原理 | 第13-14页 |
1.1.3 半导体光催化材料的发展前景 | 第14-15页 |
1.2 含Ni半导体材料的介绍 | 第15-17页 |
1.2.1 含Ni半导体材料的研究现状 | 第15-16页 |
1.2.2 含Ni半导体材料的光催化性能研究 | 第16-17页 |
1.3 钒酸盐半导体材料的介绍 | 第17-20页 |
1.3.1 钒酸盐半导体材料的研究现状 | 第17-18页 |
1.3.2 钒酸铋 | 第18页 |
1.3.3 钒酸银 | 第18-19页 |
1.3.4 钒酸镍 | 第19-20页 |
1.4 钼酸盐半导体材料的介绍 | 第20-21页 |
1.4.1 钼酸盐半导体材料的研究现状 | 第20页 |
1.4.2 钼酸盐半导体材料的光催化性能研究 | 第20-21页 |
1.5 论文主要出发点与研究内容 | 第21-23页 |
1.5.1 主要出发点 | 第21页 |
1.5.2 主要研究内容 | 第21-23页 |
1.6 参考文献 | 第23-30页 |
2 试样制备及测试分析 | 第30-38页 |
2.1 实验原料 | 第30页 |
2.2 实验仪器装置 | 第30-31页 |
2.3 样品制备 | 第31-32页 |
2.4 测试分析方法 | 第32-37页 |
2.4.1 X射线衍射分析 | 第32-33页 |
2.4.2 扫描电子显微镜形貌分析 | 第33页 |
2.4.3 透射电子显微镜形貌分析 | 第33-34页 |
2.4.4 紫外可见吸收性能测试 | 第34页 |
2.4.5 表面积测试 | 第34-35页 |
2.4.6 X射线光电子能谱测试 | 第35页 |
2.4.7 发光性能测试 | 第35-36页 |
2.4.8 光催化性能 | 第36-37页 |
2.5 参考文献 | 第37-38页 |
3 K_2NiV_4O_(12)材料的制备及其光催化性能研究 | 第38-55页 |
3.1 引言 | 第38-39页 |
3.2 实验部分 | 第39页 |
3.3 样品物相分析 | 第39-40页 |
3.4 样品形貌与元素分析 | 第40-42页 |
3.5 比表面积及孔径分布 | 第42页 |
3.6 光吸收及能带结构 | 第42-45页 |
3.7 样品表面元素化合价态 | 第45-46页 |
3.8 光催化性能测试 | 第46-47页 |
3.9 发光性能测试 | 第47-50页 |
3.10 本章小结 | 第50-51页 |
3.11 参考文献 | 第51-55页 |
4 AgCa_2Ni_2V_3O_(12)材料的制备及其光催化性能研究 | 第55-73页 |
4.1 引言 | 第55-56页 |
4.2 实验部分 | 第56页 |
4.3 样品物相分析 | 第56-59页 |
4.4 样品形貌表征与元素分析 | 第59-60页 |
4.5 比表面积及孔径分布 | 第60-61页 |
4.6 光吸收及能带结构 | 第61-64页 |
4.7 样品表面元素化合价态 | 第64-65页 |
4.8 光催化性能测试 | 第65-68页 |
4.9 本章小结 | 第68-69页 |
4.10 参考文献 | 第69-73页 |
5 Na_2Ni(MoO_4)_2材料的制备及其光催化性能研究 | 第73-92页 |
5.1 引言 | 第73-74页 |
5.2 实验部分 | 第74页 |
5.3 样品物相分析 | 第74-78页 |
5.4 样品形貌表征 | 第78-80页 |
5.5 光吸收及能带结构 | 第80-82页 |
5.6 光催化性能测试 | 第82-87页 |
5.7 本章小结 | 第87-88页 |
5.8 参考文献 | 第88-92页 |
6 Li_2Ni_2(MoO_4)_3材料的制备及其光催化性能研究 | 第92-106页 |
6.1 引言 | 第92-93页 |
6.2 实验部分 | 第93页 |
6.3 样品物相分析 | 第93-96页 |
6.4 样品形貌表征 | 第96-97页 |
6.5 紫外可见吸收性能 | 第97-99页 |
6.6 光催化性能测试 | 第99-102页 |
6.7 本章小结 | 第102-103页 |
6.8 参考文献 | 第103-106页 |
7 全文总结 | 第106-108页 |
攻读硕士期间发表论文 | 第108-109页 |
致谢 | 第109-110页 |