摘要 | 第4-5页 |
ABSTRACT | 第5-6页 |
第1章 绪论 | 第10-24页 |
1.1 引言 | 第10页 |
1.2 热电效应及其应用 | 第10-14页 |
1.2.1 Seebeck效应 | 第10-12页 |
1.2.2 Peltier效应 | 第12-13页 |
1.2.3 Thomson效应 | 第13-14页 |
1.3 几种典型的热电材料 | 第14-16页 |
1.4 Sn(Te,Se)基热电材料的研究进展 | 第16-23页 |
1.4.1 Sn(Te,Se)基材料研究现状 | 第16-18页 |
1.4.2 Sn(Te,Se)基材料主要优化手段 | 第18-21页 |
1.4.3 Sn(Te,Se)基材料纳米合成进展 | 第21-23页 |
1.5 本文的研究内容和创新点 | 第23-24页 |
第2章 实验方法 | 第24-33页 |
2.1 实验材料及设备 | 第24-25页 |
2.1.1 实验材料 | 第24-25页 |
2.1.2 实验仪器及设备 | 第25页 |
2.2 样品制备及流程 | 第25-26页 |
2.3 材料物相结构和微观形貌分析 | 第26-27页 |
2.3.1 X射线衍射分析 | 第26页 |
2.3.2 扫描电镜与能谱分析 | 第26页 |
2.3.3 透射电镜分析 | 第26-27页 |
2.4 基本物性分析 | 第27-28页 |
2.4.1 X射线光电子能谱 | 第27页 |
2.4.2 紫外-可见-近红外光光谱测试 | 第27页 |
2.4.3 霍尔测试 | 第27-28页 |
2.4.4 同步热分析测试 | 第28页 |
2.5 材料的热电性能测试 | 第28-33页 |
2.5.1 热导率 | 第28-30页 |
2.5.2 电导率 | 第30-31页 |
2.5.3 Seebeck系数 | 第31-32页 |
2.5.4 热电优值 | 第32-33页 |
第3章 化学法合成SnTe基材料热电性能研究 | 第33-44页 |
3.1 引言 | 第33页 |
3.2 SnTe粉末及块体制备方法 | 第33-40页 |
3.2.1 混合有机溶剂法 | 第33-35页 |
3.2.2 低温湿化学法 | 第35-38页 |
3.2.3 乙二胺还原法 | 第38-40页 |
3.3 合成机理分析 | 第40-41页 |
3.4 材料热电性能分析 | 第41-42页 |
3.5 本章小结 | 第42-44页 |
第4章 化学法合成SnSe材料热电性能研究 | 第44-57页 |
4.1 引言 | 第44页 |
4.2 稳定剂对SnSe粉末及块体制备的影响 | 第44-51页 |
4.2.1 乙二胺对SnSe材料制备的影响 | 第44-49页 |
4.2.2 柠檬酸对SnSe材料制备的影响 | 第49-51页 |
4.3 合成机理分析 | 第51页 |
4.4 材料热电性能分析 | 第51-56页 |
4.4.1 稳定剂对SnSe材料热电性能的影响 | 第51-53页 |
4.4.2 反应时间对SnSe材料热电性能的影响 | 第53-56页 |
4.5 本章小结 | 第56-57页 |
第5章 化学法合成n型Bi掺杂SnSe基材料热电性能研究 | 第57-70页 |
5.1 引言 | 第57页 |
5.2 稳定剂对Bi掺杂SnSe粉末及块体合成方法 | 第57-62页 |
5.2.1 乙二胺对n型Sn_(1-x)Bi_xSe材料制备的影响 | 第57-61页 |
5.2.2 柠檬酸对n型Sn_(1-x)Bi_xSe材料制备的影响 | 第61-62页 |
5.3 基本物性分析 | 第62-65页 |
5.3.1 X射线光电子能谱 | 第62-63页 |
5.3.2 紫外-可见-近红外光光谱测试 | 第63页 |
5.3.3 霍尔测试 | 第63-64页 |
5.3.4 同步热分析测试 | 第64-65页 |
5.4 合成机理分析 | 第65页 |
5.5 材料热电性能分析 | 第65-69页 |
5.5.1 稳定剂对Bi掺杂SnSe基材料热电性能的影响 | 第65-67页 |
5.5.2 掺杂源对Bi掺杂SnSe基材料热电性能的影响 | 第67-69页 |
5.6 本章小结 | 第69-70页 |
结论 | 第70-71页 |
参考文献 | 第71-79页 |
攻读硕士学位期间发表的学术论文及其他成果 | 第79-81页 |
致谢 | 第81页 |