单晶硅制绒和辊式扩散硼发射极的研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-13页 |
| 1.1 研究背景与意义 | 第10页 |
| 1.2 晶硅电池发展 | 第10-11页 |
| 1.3 本论文的研究意义和主要内容 | 第11-13页 |
| 第2章 表征方法 | 第13-23页 |
| 2.1 扫描电子显微镜(SEM) | 第13-14页 |
| 2.2 紫外-近红外光谱测试 | 第14-15页 |
| 2.3 ECV测试 | 第15-16页 |
| 2.4 四探针方块电阻测试 | 第16-18页 |
| 2.5 少子寿命测试 | 第18-19页 |
| 2.6 量子效率测试 | 第19-20页 |
| 2.7 I-V测试 | 第20-21页 |
| 2.8 冷热探针测半导体导电类型 | 第21-23页 |
| 第3章 单晶硅表面制绒过程研究 | 第23-40页 |
| 3.1 单晶硅制绒表面织构化原理 | 第23-28页 |
| 3.1.1 光学损失 | 第23-24页 |
| 3.1.2 单晶硅绒面制备机理 | 第24-27页 |
| 3.1.3 硅片切割模式 | 第27-28页 |
| 3.2 金字塔大小对电池的影响 | 第28-30页 |
| 3.2.1 小金字塔尺寸分析 | 第28-29页 |
| 3.2.2 PC1D模拟绒面大小对电池性能的影响 | 第29-30页 |
| 3.3 绒面的制备 | 第30-31页 |
| 3.4 单晶制绒添加剂对制绒的影响 | 第31-32页 |
| 3.4.1 无添加剂制绒 | 第31页 |
| 3.4.2 不同制绒添加剂对绒面的影响 | 第31-32页 |
| 3.5 损伤层对制绒的影响 | 第32-39页 |
| 3.5.1 损伤层形貌与结构 | 第32-35页 |
| 3.5.2 金刚线切割硅片制绒特性 | 第35-37页 |
| 3.5.3 抛光硅片制绒特性 | 第37-39页 |
| 3.6 本章小结 | 第39-40页 |
| 第4章 辊式扩散制备硼发射极 | 第40-57页 |
| 4.1 | 第40-50页 |
| 4.1.1 N型太阳电池优势 | 第40-41页 |
| 4.1.2 扩散原理 | 第41-44页 |
| 4.1.3 硼扩散的主要方式 | 第44-48页 |
| 4.1.4 N型电池制备技术 | 第48-50页 |
| 4.2 辊式扩散制备B发射极 | 第50-57页 |
| 4.2.1 辊式扩散发展 | 第50-51页 |
| 4.2.2 B发射极的制备 | 第51-53页 |
| 4.2.3 电池性能测试 | 第53-57页 |
| 第5章 论文总结 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 攻读学位期间取得的科研成果 | 第63页 |
