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针对NBTI效应的超大规模集成电路老化研究

致谢第7-8页
摘要第8-9页
ABSTRACT第9页
第1章 绪论第14-22页
    1.1 研究背景及意义第14-19页
        1.1.1 研究动机第14-18页
        1.1.2 针对NBTI效应的国内外研究现状第18-19页
    1.2 本文研究工作的内容第19-21页
        1.2.1 课题来源第19-20页
        1.2.2 研究内容第20页
        1.2.3 主要贡献点第20-21页
    1.3 论文的组织结构第21-22页
第2章 老化基本知识及仿真工具第22-36页
    2.1 老化背景基础知识介绍第22-28页
        2.1.1 引起老化的因素第22-23页
        2.1.2 老化预测技术第23-25页
        2.1.3 老化防护技术第25-28页
    2.2 NBTI效应及其建模第28-32页
        2.2.1 NBTI效应第28-29页
        2.2.2 NBTI建模第29-32页
    2.3 EDA仿真工具第32-35页
        2.3.1 Hspice简介第32-33页
        2.3.2 Hspice的语句和格式第33页
        2.3.3 Design Compiler简介第33页
        2.3.4 基于NBTI效应的数字集成电路静态时序分析软件第33-35页
    2.4 本章小结第35-36页
第3章 基于NBTI效应自恢复机理的老化防护技术第36-41页
    3.1 基于NBTI效应的Long-Term预测模型第36-37页
    3.2 输入向量控制(IVC)技术第37-39页
    3.3 内部节点控制(INC)技术第39-40页
    3.4 本章小结第40-41页
第4章 针对NBTI效应的门替换技术抗老化研究第41-51页
    4.1 研究动机第41-42页
    4.2 静态时序分析简介第42-43页
    4.3 考虑RAS的NBTI老化模型第43-44页
    4.4 门替换方法第44-45页
    4.5 设计流程介绍以及门替换算法的实现第45-48页
        4.5.1 基于门替换方法的静态时序分析设计流程框架第45-46页
        4.5.2 潜在关键路径集合的识别第46-47页
        4.5.3 关键门的识别第47页
        4.5.4 门替换算法第47-48页
    4.6 实验结果及分析第48-50页
        4.6.1 实验条件第48页
        4.6.2 实验结果分析第48-50页
    4.7 本章小结第50-51页
第5章 结束语第51-53页
    5.1 本文工作总结第51页
    5.2 研究工作展望第51-53页
参考文献第53-56页
攻读硕士学位期间发表的学术活动及成果情况第56-57页

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