| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 十四元酮内酯类抗生素研究进展 | 第8-32页 |
| 第一节 引言 | 第8-9页 |
| 第二节 大环内酯抗生素的耐药机制研究 | 第9-10页 |
| 第三节 针对耐药问题设计合成的酮内酯化合物 | 第10-26页 |
| 1. 酮内酯11,12-位修饰 | 第11-15页 |
| 2. 酮内酯6-位修饰 | 第15-19页 |
| 3. 酮内酯9-位修饰 | 第19-23页 |
| 4. 桥环酮内酯衍生物 | 第23页 |
| 5. 酮内酯二甲氨糖4’-OH的修饰 | 第23-25页 |
| 6. 新母核实体的研究 | 第25-26页 |
| 第四节 总结与展望 | 第26-27页 |
| 参考文献 | 第27-32页 |
| 第二章 泰利霉素及其含硫类似物的合成工艺研究 | 第32-43页 |
| 第一节 研究背景和立体依据 | 第32-34页 |
| 第二节 合成路线设计 | 第34-40页 |
| 一、大环内酯母核的合成 | 第34-35页 |
| 二、泰利霉素侧脸的合成 | 第35-37页 |
| 三、泰利霉素的合成 | 第37页 |
| 四、含硫醚侧链的合成 | 第37-39页 |
| 五、含硫醚侧链泰利霉素类似物的合成 | 第39-40页 |
| 第三节 问题及讨论 | 第40-41页 |
| 第四节 本章小结 | 第41-42页 |
| 参考文献 | 第42-43页 |
| 第三章 11,12-位含喹啉芳杂环侧链酮内酯化合物的设计合成与生物活性研究 | 第43-62页 |
| 第一节 研究背景及立题依据 | 第43-45页 |
| 第二节 合成路线设计 | 第45-54页 |
| 一、大环内酯母核的合成 | 第45-46页 |
| 二、含喹啉芳杂环侧链中间体的合成 | 第46-51页 |
| 三、目标化合物的合成 | 第51-54页 |
| 第三节 抗菌活性分析 | 第54-57页 |
| 第四节 问题与讨论 | 第57-59页 |
| 第五节 本章小结 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-62页 |
| 第四章 新结构酮内酯抗生素的探索性研究 | 第62-74页 |
| 第一节 研究背景和立题依据 | 第62-65页 |
| 第二节 合成路线设计 | 第65-68页 |
| 一、大环母核的合成 | 第65-68页 |
| 第三节 问题与讨论 | 第68-70页 |
| 第四节 本章小结 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-74页 |
| 论文总结 | 第74-75页 |
| 合成化合物一览表 | 第75-81页 |
| 实验部分 | 第81-105页 |
| 论文缩略语 | 第105-107页 |
| 关键化合物图谱 | 第107-148页 |
| 在校期间发表论文 | 第148-149页 |
| 致谢 | 第149-150页 |