| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-27页 |
| 1.1 研究背景 | 第9-10页 |
| 1.2 铌及铌合金氧化行为 | 第10-12页 |
| 1.2.1 铌的氧化 | 第10-11页 |
| 1.2.2 铌合金氧化 | 第11-12页 |
| 1.3 提高铌及铌合金抗氧化的方法 | 第12-22页 |
| 1.3.1 合金化法 | 第12-14页 |
| 1.3.2 细化晶粒法 | 第14页 |
| 1.3.3 涂层保护法 | 第14-19页 |
| 1.3.4 铌及铌合金抗氧化涂层国内研究进展 | 第19页 |
| 1.3.5 铌及铌合金抗氧化涂层的制备方法 | 第19-22页 |
| 1.4 辉光等离子渗和包埋渗制备抗氧化涂层 | 第22-24页 |
| 1.4.1 辉光等离子渗 | 第22-23页 |
| 1.4.2 包埋渗法 | 第23-24页 |
| 1.5 本论文采用的涂层体系 | 第24-25页 |
| 1.6 课题研究意义及主要内容 | 第25-27页 |
| 1.6.1 选题意义 | 第25-26页 |
| 1.6.2 研究内容 | 第26-27页 |
| 第二章 实验内容和方法 | 第27-36页 |
| 2.1 基体材料的选择 | 第27页 |
| 2.2 实验工艺流程 | 第27-28页 |
| 2.3 辉光离子渗 Mo | 第28-31页 |
| 2.3.1 辉光离子渗 Mo 设备及原理 | 第28-29页 |
| 2.3.2 辉光离子渗 Mo 实验材料 | 第29-30页 |
| 2.3.3 渗 Mo 实验方案 | 第30-31页 |
| 2.3.4 辉光离子渗 Mo 操作过程 | 第31页 |
| 2.4 包埋渗 Si-B | 第31-34页 |
| 2.4.1 包埋渗设备及原理 | 第31-33页 |
| 2.4.2 渗剂的准备 | 第33页 |
| 2.4.3 包埋渗操作过程 | 第33-34页 |
| 2.4.4 包埋渗工艺参数 | 第34页 |
| 2.5 氧化实验 | 第34-35页 |
| 2.5.1 低温氧化 | 第34页 |
| 2.5.2 高温氧化 | 第34-35页 |
| 2.6 实验结果分析 | 第35-36页 |
| 2.6.1 X 射线衍射分析（XRD） | 第35页 |
| 2.6.2 扫描电子显微镜分析（SEM 分析） | 第35页 |
| 2.6.3 能谱分析（EDS） | 第35-36页 |
| 第三章 铌及铌合金表面辉光离子渗钼研究 | 第36-42页 |
| 3.1 工艺参数对渗 Mo 层的影响 | 第36-41页 |
| 3.1.1 温度对表面形貌影响 | 第36-37页 |
| 3.1.2 温度对涂层厚度的影响 | 第37-38页 |
| 3.1.3 温度对涂层截面形貌的影响 | 第38-40页 |
| 3.1.4 时间对涂层厚度的影响 | 第40-41页 |
| 3.1.5 基体合金元素对渗 Mo 的影响 | 第41页 |
| 3.2 本章小结 | 第41-42页 |
| 第四章 铌合金表面 Mo-Si-B 涂层的制备 | 第42-58页 |
| 4.1 涂层表面分析 | 第42-44页 |
| 4.1.1 涂层表面相分析 | 第42-43页 |
| 4.1.2 涂层表面形貌分析 | 第43-44页 |
| 4.2 包埋渗中气体平衡分压计算 | 第44-45页 |
| 4.3 涂层截面形貌及相结构分析 | 第45-52页 |
| 4.3.1 B 含量对涂层组织形貌与相结构的影响 | 第45-50页 |
| 4.3.2 温度对涂层组织形貌与相的影响 | 第50-52页 |
| 4.4 Mo-Si-B 涂层生长机制 | 第52-57页 |
| 4.5 本章小结 | 第57-58页 |
| 第五章 Mo-Si-B 涂层氧化行为研究 | 第58-70页 |
| 5.1 氧化简介 | 第58-60页 |
| 5.1.1 影响氧化膜抗氧化性能的因素 | 第58-59页 |
| 5.1.2 氧化膜形成条件 | 第59-60页 |
| 5.2 Mo-Si-B 合金的氧化行为 | 第60-62页 |
| 5.2.1 Mo-Si-B 合金的低温氧化行为 | 第60-61页 |
| 5.2.2 Mo-Si-B 合金的高温氧化行为 | 第61-62页 |
| 5.3 Mo-Si-B 涂层氧化后涂层形貌及相分析 | 第62-69页 |
| 5.3.1 Mo-Si-B 涂层氧化后表面形貌与相分析 | 第62-64页 |
| 5.3.2 Mo-Si-B 涂层氧化后截面形貌与相分析 | 第64-69页 |
| 5.4 本章小结 | 第69-70页 |
| 结论 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-78页 |
| 攻读学位期间取得的研究成果 | 第78-79页 |
| 致谢 | 第79页 |
