| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 第一章 文献综述 | 第8-15页 |
| 1.1 硅肥研究进展 | 第8-10页 |
| 1.2 蔬菜水培技术的研究进展 | 第10-11页 |
| 1.2.1 水培技术的概念 | 第10页 |
| 1.2.2 水培技术的特点和优势 | 第10-11页 |
| 1.2.3 水培技术的发展现状 | 第11页 |
| 1.3 叶绿素荧光动力学技术应用的研究进展 | 第11-13页 |
| 1.3.1 叶绿素荧光技术原理 | 第11-12页 |
| 1.3.2 常用的叶绿素荧光参数 | 第12页 |
| 1.3.3 叶绿素荧光技术在黄瓜逆境胁迫研究中的应用进展 | 第12-13页 |
| 1.3.4 叶绿素荧光分析技术在黄瓜生产实践、抗性研究等方面的应用前景 | 第13页 |
| 1.4 本论文的目的、意义 | 第13-15页 |
| 第二章 材料与方法 | 第15-17页 |
| 2.1 供试材料 | 第15页 |
| 2.1.1 供试品种 | 第15页 |
| 2.1.2 栽培方式 | 第15页 |
| 2.1.3 主要仪器设备和试剂 | 第15页 |
| 2.2 研究方法 | 第15-16页 |
| 2.2.1 试验设计 | 第15-16页 |
| 2.2.2 测定项目和方法 | 第16页 |
| 2.3 数据分析 | 第16-17页 |
| 第三章 结果与分析 | 第17-23页 |
| 3.1 不同浓度硅对黄瓜植株生长发育及物候期的影响 | 第17-18页 |
| 3.1.1 不同浓度硅营养液中黄瓜植株生长发育指标的数据分析表 | 第17页 |
| 3.1.2 不同浓度硅营养液中黄瓜植株生长曲线 | 第17-18页 |
| 3.2 不同浓度硅对黄瓜叶片叶绿素含量的影响 | 第18-19页 |
| 3.3 不同浓度硅对黄瓜叶片光合特性的影响 | 第19-20页 |
| 3.4 不同浓度硅对黄瓜叶片叶绿素荧光参数的影响 | 第20-21页 |
| 3.5 不同浓度硅对黄瓜果实产量和营养品质的影响 | 第21-23页 |
| 第四章 讨论 | 第23-26页 |
| 4.1 施硅对黄瓜的生长发育有促进作用 | 第23页 |
| 4.2 不同浓度硅对黄瓜叶片叶绿素含量的影响 | 第23页 |
| 4.3 不同浓度硅对黄瓜叶片光合特性的影响 | 第23-24页 |
| 4.4 不同浓度硅对黄瓜叶片荧光特性的影响 | 第24页 |
| 4.5 施硅可以改善黄瓜产量和营养品质的影响 | 第24-26页 |
| 第五章 结论 | 第26-27页 |
| 参考文献 | 第27-30页 |
| 致谢 | 第30-31页 |
| 作者简介 | 第31页 |
