| 中文摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5-6页 |
| 第1章 文献综述与绪论 | 第9-23页 |
| 1.1 多晶硅材料的特性及功能 | 第10-14页 |
| 1.1.1 硅与多晶硅材料 | 第10-11页 |
| 1.1.2 冶金硅的生产与纯化 | 第11-12页 |
| 1.1.3 冶金硅纯化太阳能级多晶硅 | 第12-13页 |
| 1.1.4 冶金硅纯化电子级多晶硅应用 | 第13-14页 |
| 1.2 多晶硅工业生产工艺技术路线 | 第14-19页 |
| 1.2.1 改良西门子技术 | 第14-16页 |
| 1.2.2 流化床技术 | 第16-17页 |
| 1.2.3 硅烷热分解技术 | 第17-18页 |
| 1.2.4 升级冶金硅技术 | 第18页 |
| 1.2.5 多晶硅生产工艺技术对比 | 第18-19页 |
| 1.3 西门子多晶硅生产还原尾气回收工艺 | 第19-20页 |
| 1.3.1 还原尾气湿法回收工艺 | 第19页 |
| 1.3.2 还原尾气干法回收工艺 | 第19-20页 |
| 1.4 西门子多晶硅生产还原尾气回收工艺优化改进 | 第20-21页 |
| 1.4.1 还原尾气预分离工艺 | 第20页 |
| 1.4.2 氢气和氯化氢的分离工艺 | 第20-21页 |
| 1.4.3 SiHCl3、SiCl4和HCl的分离工艺 | 第21页 |
| 1.4.4 SiHCl3和HCl的分离工艺 | 第21页 |
| 1.4.5 SiHCl3和SiCl4的分离工艺 | 第21页 |
| 1.5 还原尾气回收工艺设计与控制 | 第21-22页 |
| 1.6 本文主要研究目的 | 第22-23页 |
| 第2章 改良西门子法还原尾气回收过程控制方案研究 | 第23-47页 |
| 2.1 建模方案与周期性干扰 | 第24-27页 |
| 2.2 尾气回收工厂的工艺设计 | 第27-33页 |
| 2.2.1 CVD反应器的设计和实施 | 第27-29页 |
| 2.2.2 OP-RP工艺设计和优化 | 第29-31页 |
| 2.2.3 动态过程设计 | 第31-33页 |
| 2.3 具有完全独立PI控制器的过程控制 | 第33-36页 |
| 2.3.1 实例1：具有前馈控制的PID控制结构 | 第33-35页 |
| 2.3.2 实例2：带前馈缓冲罐的PID控制结构 | 第35-36页 |
| 2.4 基于MPC的监督控制 | 第36-43页 |
| 2.4.1 实例3：模型预测控制 | 第39-42页 |
| 2.4.2 实例4：具有缓冲罐的模型预测控制 | 第42-43页 |
| 2.5 结果与讨论 | 第43-45页 |
| 2.6 本章小结 | 第45-47页 |
| 第3章 改良西门子法还原尾气回收节能降耗工艺设计 | 第47-63页 |
| 3.1 还原尾气干法回收工艺模型 | 第47-50页 |
| 3.2 传统改良西门子法还原尾气干法回收工艺 | 第50-55页 |
| 3.2.1 传统还原尾气回收工艺流程和操作原理 | 第50-51页 |
| 3.2.2 传统还原尾气回收工艺模拟结果 | 第51-54页 |
| 3.2.3 传统还原尾气回收工艺模拟结果综合分析 | 第54-55页 |
| 3.3 新型改良西门子法还原尾气干法回收工艺 | 第55-60页 |
| 3.3.1 新型还原尾气回收新工艺原理 | 第55-56页 |
| 3.3.2 新型还原尾气回收新工艺模拟结果 | 第56-60页 |
| 3.3.3 新型还原尾气回收新工艺模拟结果综合分析 | 第60页 |
| 3.4 本章小结 | 第60-63页 |
| 第4章 结论 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-73页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第73-75页 |
| 致谢 | 第75-76页 |