垂直磁化纳米结构中畴壁的动力学研究
| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-19页 |
| 1.1 研究背景 | 第10-11页 |
| 1.2 磁畴和畴壁 | 第11-13页 |
| 1.3 纳米线中畴壁的运动与畴壁动力学 | 第13-18页 |
| 1.3.1 畴壁运动 | 第13-17页 |
| 1.3.2 畴壁动力学 | 第17-18页 |
| 1.4 本论文主要研究内容 | 第18-19页 |
| 第2章 微磁学基础及计算方法 | 第19-27页 |
| 2.1 磁性材料中的能量介绍 | 第19-21页 |
| 2.2 微磁学方程 | 第21-24页 |
| 2.2.1 静态微磁学方程 | 第21-22页 |
| 2.2.2 动态微磁学方程 | 第22-24页 |
| 2.3 微磁学计算方法 | 第24-25页 |
| 2.4 OOMMF软件的介绍 | 第25-27页 |
| 第3章 垂直磁化材料中的畴壁振荡与去钉扎 | 第27-45页 |
| 3.1 模型的建立及参数设定 | 第27-28页 |
| 3.2 畴壁振荡特性 | 第28-38页 |
| 3.2.1 畴壁振荡与去钉扎 | 第28-31页 |
| 3.2.2 刻痕深度对振荡特性的影响 | 第31-36页 |
| 3.2.3 材料参数对振荡特性的影响 | 第36-38页 |
| 3.3 对称刻痕与畴壁振荡的关系 | 第38-41页 |
| 3.3.1 模型参数 | 第38-39页 |
| 3.3.2 对称性刻痕对畴壁振荡的影响 | 第39-41页 |
| 3.4 不对称性刻痕与畴壁振荡的关系 | 第41-44页 |
| 3.4.1 模型参数 | 第41-42页 |
| 3.4.2 不对称刻痕对畴壁振荡的影响 | 第42-44页 |
| 3.5 本章小结 | 第44-45页 |
| 第4章 多刻痕垂直磁化纳米线中的畴壁振荡 | 第45-54页 |
| 4.1 模型参数 | 第45-46页 |
| 4.2 多刻痕对畴壁振荡行为的影响 | 第46-51页 |
| 4.3 磁场辅助对畴壁振荡的影响 | 第51-53页 |
| 4.4 本章小结 | 第53-54页 |
| 第5章 垂直-面内磁化材料中的畴壁振荡特性 | 第54-67页 |
| 5.1 模型的建立 | 第54-57页 |
| 5.1.1 模型及参数 | 第54-55页 |
| 5.1.2 畴壁振荡特性 | 第55-57页 |
| 5.2 畴壁起始振荡与材料参数的关系 | 第57-61页 |
| 5.3 材料参数对畴壁振荡的影响 | 第61-63页 |
| 5.4 磁场辅助对畴壁振荡的影响 | 第63-65页 |
| 5.5 本章小结 | 第65-67页 |
| 第6章 全文总结 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-74页 |
| 附录1 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第74-75页 |
| 附录2 攻读硕士学位期间参加的科研项目 | 第75页 |
