| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5页 |
| 注释表 | 第11-12页 |
| 缩略词 | 第12-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-25页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第13-15页 |
| 1.2 等离子体主动流动控制技术国内外研究现状 | 第15-24页 |
| 1.2.1 等离子体气动激励方式研究 | 第15-17页 |
| 1.2.2 等离子体合成射流激励器工作特性研究 | 第17-22页 |
| 1.2.3 等离子体合成射流流动控制应用研究 | 第22-24页 |
| 1.3 本文研究内容 | 第24-25页 |
| 第二章 等离子体合成射流激励器实验系统搭建 | 第25-29页 |
| 2.1 等离子体合成射流激励器电源 | 第25页 |
| 2.2 等离子体合成射流激励器实验系统搭建 | 第25-28页 |
| 2.2.1 电源及电参数测量系统搭建 | 第25-27页 |
| 2.2.2 高速纹影系统搭建 | 第27-28页 |
| 2.2.3 同步系统 | 第28页 |
| 2.3 本章小结 | 第28-29页 |
| 第三章 单出口等离子体合成射流激励器的工作特性研究 | 第29-51页 |
| 3.1 单出口等离子体合成射流激励器设计 | 第29-30页 |
| 3.2 放电电阻对激励器特性的影响实验 | 第30-36页 |
| 3.2.1 实验设置 | 第30-31页 |
| 3.2.2 实验结果分析 | 第31-36页 |
| 3.3 斜孔式与直孔式激励器特性的对比实验 | 第36-41页 |
| 3.3.1 实验结果分析 | 第36-40页 |
| 3.3.2 结论 | 第40-41页 |
| 3.4 直狭缝式与直孔式激励器特性的对比实验 | 第41-46页 |
| 3.4.1 实验结果分析 | 第41-46页 |
| 3.4.2 结论 | 第46页 |
| 3.5 斜狭缝式激励器的工作特性研究 | 第46-49页 |
| 3.5.1 实验设置 | 第46-47页 |
| 3.5.2 实验结果分析 | 第47-49页 |
| 3.5.3 结论 | 第49页 |
| 3.6 本章小结 | 第49-51页 |
| 第四章 斜缝式激励器的多周期特性研究 | 第51-57页 |
| 4.1 激励器电参数特性的多周期实验 | 第51-53页 |
| 4.2 激励器流场特性的多周期实验 | 第53-56页 |
| 4.3 本章小结 | 第56-57页 |
| 第五章 低气压多缝式等离子体合成射流激励器的阵列效应探索 | 第57-69页 |
| 5.1 实验设备 | 第57-58页 |
| 5.2 低气压下多缝式激励器的静特性研究 | 第58-67页 |
| 5.2.1 放电电压-电流特性 | 第58-60页 |
| 5.2.2 激励器流场特性实验 | 第60-67页 |
| 5.3 本章小结 | 第67-69页 |
| 第六章 超声速压缩拐角流动分离的控制实验 | 第69-77页 |
| 6.1 实验方案设计及实验装置介绍 | 第69-70页 |
| 6.1.1 大间距多斜缝式激励器的设计 | 第69页 |
| 6.1.2 风洞实验条件 | 第69-70页 |
| 6.2 超声速压缩拐角流动分离的控制实验 | 第70-75页 |
| 6.2.1 放电电压-电流特性 | 第70页 |
| 6.2.2 基准特性实验 | 第70-73页 |
| 6.2.3 等离子体合成射流控制下的流动结构演化过程 | 第73-74页 |
| 6.2.4 等离子体合成射流的强度分析 | 第74-75页 |
| 6.3 本章小结 | 第75-77页 |
| 第七章 结论与展望 | 第77-79页 |
| 7.1 结论 | 第77页 |
| 7.2 展望 | 第77-79页 |
| 参考文献 | 第79-83页 |
| 致谢 | 第83-85页 |
| 在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第85页 |
