非化学计量比和掺杂的CCTO薄膜及其性能研究
摘要 | 第4-5页 |
ABSTRACT | 第5-6页 |
第一章 绪论 | 第9-19页 |
1.1 压敏材料的研究和概述 | 第9-10页 |
1.2 CCTO材料概述 | 第10-11页 |
1.3 CCTO材料制备方法 | 第11-13页 |
1.4 CCTO材料特性 | 第13-16页 |
1.4.1 巨介电特性 | 第13-14页 |
1.4.2 非线性电流-电压特性 | 第14-16页 |
1.5 论文主要研究内容 | 第16-19页 |
第二章 CCTO薄膜的制备手段和测试方法 | 第19-27页 |
2.1 引言 | 第19页 |
2.2 原料和仪器的选择 | 第19-21页 |
2.3 薄膜制备流程 | 第21-23页 |
2.3.1 容器和基底清洗 | 第21页 |
2.3.2 前驱液配制 | 第21-22页 |
2.3.3 CCTO薄膜制备 | 第22-23页 |
2.3.4 顶电极的制备 | 第23页 |
2.4 薄膜形态表征和测试方法 | 第23-25页 |
2.4.1 X射线衍射分析 | 第24页 |
2.4.2 扫描电子显微镜测试 | 第24页 |
2.4.3 非线性I-V测试 | 第24-25页 |
2.5 本章小结 | 第25-27页 |
第三章 Ti非化学计量比薄膜的性能研究 | 第27-33页 |
3.1 引言 | 第27页 |
3.2 非化学计量比薄膜制备流程及测试手段 | 第27-28页 |
3.3 测试结果及分析 | 第28-32页 |
3.3.1 XRD、SEM测试结果分析 | 第28-29页 |
3.3.2 非线性I-V特性研究 | 第29-32页 |
3.4 本章小结 | 第32-33页 |
第四章 Cu非化学计量比薄膜的性能研究 | 第33-41页 |
4.1 引言 | 第33页 |
4.2 非化学计量比薄膜制备流程及测试手段 | 第33-34页 |
4.3 测试结果分析 | 第34-40页 |
4.3.1 物相成分和微观形态分析 | 第34-35页 |
4.3.2 非线性I-V特性研究 | 第35-40页 |
4.4 本章小结 | 第40-41页 |
第五章 Al掺杂的CCTO薄膜性能研究 | 第41-47页 |
5.1 引言 | 第41-42页 |
5.2 金属掺杂薄膜的制备流程及测试手段 | 第42页 |
5.3 测试结果及分析 | 第42-45页 |
5.4 本章小结 | 第45-47页 |
第六章 CCTO薄膜的非线性I-V特性理论模型 | 第47-55页 |
6.1 引言 | 第47页 |
6.2 非线性I-V模型的构造及分析 | 第47-52页 |
6.2.1 薄膜内部存在的DSB结构 | 第47-50页 |
6.2.2 CCTO薄膜与顶电极形成的MIS结构 | 第50-52页 |
6.3 本章小结 | 第52-55页 |
第七章 总结 | 第55-57页 |
参考文献 | 第57-63页 |
发表论文和参加科研情况说明 | 第63-65页 |
致谢 | 第65-66页 |