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碱式锡酸锶的制备与光催化性能研究

中文摘要第4-5页
Abstract第5-6页
主要符号表第10-11页
第一章 前言第11-25页
    1.1 半导体光催化概述第11-13页
        1.1.1 光催化的研究背景第11页
        1.1.2 半导体光催化技术的应用第11-13页
    1.2 半导体光催化的基本原理第13-15页
        1.2.1 半导体能带结构第13-14页
        1.2.2 半导体光催化的反应步骤第14-15页
    1.3 光催化影响因素第15-16页
        1.3.1 光催化剂自身性质第15-16页
        1.3.2 反应外部条件第16页
    1.4 TiO_2光催化技术简介第16-20页
        1.4.1 TiO_2光催化剂的优缺点第16-18页
        1.4.2 TiO_2光催化剂改性第18-20页
    1.5 光催化剂的合成方法简介第20-22页
        1.5.1 沉淀法第20-21页
        1.5.2 溶胶-凝胶法第21页
        1.5.3 水热法第21页
        1.5.4 超声波化学合成法第21-22页
        1.5.5 微波法第22页
    1.6 立题依据与研究方案第22-25页
        1.6.1 立题依据第22-23页
        1.6.2 实验方案第23-24页
        1.6.3 论文特色与创新性第24-25页
第二章 实验材料、设备及表征方法第25-35页
    2.1 试剂及设备第25-27页
        2.1.1 主要实验试剂第25-26页
        2.1.2 主要实验仪器第26-27页
    2.2 催化剂的物性表征第27-31页
        2.2.1 X射线粉末衍射(XRD)第27页
        2.2.2 低温氮气吸附测定比表面积(BET)第27页
        2.2.3 紫外-可见漫反射吸收光谱(UV-Vis DRS)第27-28页
        2.2.4 场发射扫描电子显微镜(FESEM)第28-29页
        2.2.5 透射电子显微镜(TEM)第29页
        2.2.6 X射线光电子能谱(XPS)第29页
        2.2.7 光电化学方法第29-30页
        2.2.8 电子自旋共振技术(ESR)第30-31页
    2.3 光催化性能评价第31-35页
        2.3.1 气相光催化降解活性测试第31-32页
        2.3.2 液相光催化降解活性测试第32-33页
        2.3.3 光催化制氢活性测试第33-35页
第三章 新型光催化剂--碱式锡酸锶第35-47页
    3.1 引言第35页
    3.2 催化剂的制备第35-36页
    3.3 催化剂物相表征第36-40页
        3.3.1 XRD表征第36-37页
        3.3.2 SEM表征第37-38页
        3.3.3 TEM表征第38-39页
        3.3.4 比表面积和孔径分布第39页
        3.3.5 DRS表征第39-40页
    3.4 光催化氧化有机污染物第40-46页
        3.4.1 气相降解苯第40-44页
        3.4.2 液相降解RhB第44-45页
        3.4.3 光催化剂稳定性第45-46页
    3.5 小结第46-47页
第四章 碱式锡酸锶光催化氧化有机污染物的机理第47-53页
    4.1 引言第47页
    4.2 光电流和阻抗实验第47-48页
    4.3 ESR检测活性物种第48-50页
    4.4 气相降解苯的反应机理第50-51页
    4.5 气相降解苯的量子效率第51页
    4.6 捕获剂实验第51-52页
    4.7 小结第52-53页
第五章 碱式锡酸锶光催化制氢与机理讨论第53-59页
    5.1 引言第53页
    5.2 碱式锡酸锶光催化制氢第53-55页
    5.3 量子效率计算第55-56页
    5.4 机理的初步探讨第56-58页
    5.5 小结第58-59页
第六章 结论与展望第59-60页
    6.1 主要结论第59页
    6.2 展望第59-60页
参考文献第60-65页
致谢第65-66页
个人简历第66-67页
在读期间已发表的论文第67页

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